[发明专利]显示基板及其制造方法、测试方法和显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示基板及其制造方法、测试方法和显示装置。

背景技术

目前，高分辨率是显示装置发展的一个主要趋势，然而随着高分辨率显示装置的发展，对制造显示装置的显示材料提出了更为苛刻的要求。图1a为现有技术中彩膜基板的光线示意图，图1b为彩色矩阵图形和黑矩阵的结构示意图，如图1a和图1b所示，该彩膜基板包括衬底基板11、偏振片12、黑矩阵13和多个彩色矩阵图形，彩色矩阵图形和黑矩阵13位于衬底基板11的入光面，偏振片12位于衬底基板11的出光面，黑矩阵在图1a中未具体画出。其中，彩色矩阵图形可包括红色矩阵图形R、绿色矩阵图形G或者蓝色矩阵图形B，则图1中红色矩阵图形R、绿色矩阵图形G、蓝色矩阵图形B依次排列。彩色矩阵图形的表面均为平滑表面，图1b以红色矩阵图形R为例，如图1b所示，红色矩阵图形R的表面为平滑表面。垂直透过各个彩色矩阵图形和衬底基板11的光线到达偏振片12。为使垂直透射的光线发生散射，对偏振片12的表面进行处理以使偏振片12包括凸起部位121和非凸起部位122，凸起部位121可对垂直透射的光线进行散射以形成散射的光线。

现有技术中，为使显示装置获得高分辨率，需要减小像素间距(Pixel Pitch)，导致偏振片12的凸起部位121无法与彩色矩阵图形相匹配，从而使得部分垂直透射的光线无法经过凸起部位121，而是直接透过偏振片12上凸起部位121之外的非凸起部位122，也即是说，该部分光线垂直透过偏振片12而未发生散射。

综上所述，在透过偏振片12的光线中，垂直透射的光线和散射的光线之间存在视觉上的差异，垂直透射的光线会导致闪烁(Sparking)不良。

发明内容

本发明提供一种显示基板及其制造方法、测试方法和显示装置，用于降低显示装置的闪烁不良。

为实现上述目的，本发明提供了一种显示基板，包括衬底基板和位于所述衬底基板入光面上的彩色矩阵图形和黑矩阵，所述彩色矩阵图形的表面为凹凸不平表面。

可选地，所述衬底基板的出光面上还形成有偏振片；所述显示基板的雾度为设定值。

可选地，所述设定值为25％至50％。

为实现上述目的，本发明提供了一种显示装置，包括相对设置的上述显示基板和对置基板。

为实现上述目的，本发明提供了一种显示基板的制造方法，包括：

在衬底基板的入光面上形成黑矩阵；

在衬底基板的入光面上形成彩色矩阵图形，所述彩色矩阵图形的表面为凹凸不平表面。

可选地，所述在衬底基板的入光面上形成彩色矩阵图形包括：

在所述衬底基板的入光面上形成彩色矩阵图形；

对所述彩色矩阵图形的表面进行离子轰击以形成凹凸不平表面。

可选地，所述在衬底基板的入光面上形成彩色矩阵图形包括：

在衬底基板的入光面上形成彩色矩阵材料层；

对衬底基板进行光刻胶涂覆和曝光，以形成光刻胶保留部分和光刻胶不保留部分；

对衬底基板进行显影，去除光刻胶不保留部分并保留光刻胶保留部分；

通过特定浓度的刻蚀溶液对衬底基板进行刻蚀，形成彩色矩阵图形并使得彩色矩阵图形的表面为凹凸不平表面；

剥离光刻胶保留部分。

可选地，所述刻蚀溶液为KOH溶液，特定浓度为0.83％至1％。

为实现上述目的，本发明提供了一种显示基板的测试方法，所述显示基板包括衬底基板和位于所述衬底基板入光面上的彩色矩阵图形和黑矩阵，所述彩色矩阵图形的表面为凹凸不平表面，所述衬底基板的出光面上还形成有偏振片；

所述测试方法包括：

通过雾度计对所述显示基板进行测试，得出所述显示基板的雾度，所述显示基板的雾度为设定值。

可选地，所述设定值为25％至50％。

本发明具有以下有益效果：

本发明提供的显示基板及其制造方法、测试方法和显示装置的技术方案中，彩色矩阵图形和黑矩阵位于衬底基板入光面上，彩色矩阵图形的表面为凹凸不平表面，该凹凸不平表面可使透过的光线散射，极大的减少了垂直透射的光线，从而降低了显示装置的闪烁不良。

附图说明

图1a为现有技术中彩膜基板的光线示意图；

图1b为彩色矩阵图形和黑矩阵的结构示意图；

图2为本发明实施例一提供的一种显示基板的结构示意图；

图3为图2中彩色矩阵图形和黑矩阵的局部放大示意图；

图4为图2中显示基板的光线示意图；