[发明专利]显示基板及其制造方法、测试方法和显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括衬底基板和位于所述衬底基板入光面上的彩色矩阵图形和黑矩阵，所述彩色矩阵图形的表面为凹凸不平表面。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述衬底基板的出光面上还形成有偏振片；

所述显示基板的雾度为设定值。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述设定值为25％至50％。

4.一种显示装置，其特征在于，包括相对设置的显示基板和对置基板，显示基板采用上述权利要求1至3任一所述的显示基板。

5.一种显示基板的制造方法，其特征在于，包括：

在衬底基板的入光面上形成黑矩阵；

在衬底基板的入光面上形成彩色矩阵图形，所述彩色矩阵图形的表面为凹凸不平表面。

6.根据权利要求5所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述在衬底基板的入光面上形成彩色矩阵图形包括：

在所述衬底基板的入光面上形成彩色矩阵图形；

对所述彩色矩阵图形的表面进行离子轰击以形成凹凸不平表面。

7.根据权利要求5所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述在衬底基板的入光面上形成彩色矩阵图形包括：

在衬底基板的入光面上形成彩色矩阵材料层；

对衬底基板进行光刻胶涂覆和曝光，以形成光刻胶保留部分和光刻胶不保留部分；

对衬底基板进行显影，去除光刻胶不保留部分并保留光刻胶保留部分；

通过特定浓度的刻蚀溶液对衬底基板进行刻蚀，形成彩色矩阵图形并使得彩色矩阵图形的表面为凹凸不平表面；

剥离光刻胶保留部分。

8.根据权利要求7所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述刻蚀溶液为KOH溶液，特定浓度为0.83％至1％。

9.一种显示基板的测试方法，其特征在于，所述显示基板包括衬底基板和位于所述衬底基板入光面上的彩色矩阵图形和黑矩阵，所述彩色矩阵图形的表面为凹凸不平表面，所述衬底基板的出光面上还形成有偏振片；

所述测试方法包括：

通过雾度计对所述显示基板进行测试，得出所述显示基板的雾度，所述显示基板的雾度为设定值。

10.根据权利要求9所述的显示基板的测试方法，其特征在于，所述设定值为25％至50％。