[发明专利]触摸屏及其制作方法、触摸显示装置在审

专利信息
申请号: 201410472024.7 申请日: 2014-09-16
公开(公告)号: CN104267859A 公开(公告)日: 2015-01-07
发明(设计)人: 刘国冬 申请(专利权)人: 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G06F3/044 分类号: G06F3/044;G06F3/041
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 230011 安徽省合肥*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 触摸屏 及其 制作方法 触摸 显示装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示领域,尤其涉及一种触摸屏及其制造方法、触摸显示装置。

背景技术

触摸显示器发展迅速,已经逐渐发展成为主流平板显示器。目前,触摸显示器多由具有触控功能的触摸屏贴合在显示面板上制成,而触摸屏多采用电容式传感,其主要结构包括隔着绝缘层纵横交错的驱动线和感应线,当手指(或其它物体)靠近或触摸时,会影响在触摸点附近相交叉的驱动线和感应线间的电容,通过检测驱动线和感应线间的电容变化就可以识别触摸点的位置。

随着消费者对触摸显示器的薄化需求,技术人员开发出多种技术以制造更薄、显示品质更佳的产品。其中,单玻璃全贴合技术(one glass solution,OGS)是薄型化中的一个重要发展的方向。OGS是在显示面板的保护玻璃上直接形成保护膜及感应层的技术,一片玻璃可同时起到保护及触控传感器的双重作用。OGS技术具有以下优势:结构简单、轻、薄、透光性好,而且由于省掉一块透明基板以及贴合工序,可节省生产成本,提高产品良率。

目前主流的OGS触摸屏结构基本上是驱动线和感应线同层形成,其中之一连续,其中之一采用金属搭桥(或ITO搭桥)相互连接的结构,其中,制备金属搭桥时的镀膜工序是导致工序复杂、产品品质较难控制的因素之一,而且这种搭桥结构极易出现因静电放电(ESD)导致搭桥处击穿的现象,影响触控功能;另一方面,金属搭桥结构在光照下较易看到金属连接线发白现象,影响透过率及显示品质。

发明内容

本发明的实施例提供一种触摸屏及其制造方法、触摸显示装置,无需搭桥,透过率高,工艺制程简单,不仅可降低生产成本,而且量产化良率高。

为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:

一种触摸屏,包括:透明基板依次形成于所述透明基板之上的图案化的第一透明导电层、图案化的绝缘层以及图案化的第二透明导电层,其中,

所述第一透明导电层和所述第二透明导电层中,其一形成有多个驱动线,另一形成有多个感应线;所述绝缘层的图案与所述第一透明导电层的图案一致,或者与所述第二透明导电层的图案一致。

进一步地,所述的触摸屏还包括:保护层,形成于所述第二透明导电层上。

进一步地,所述的触摸屏还包括:消影层,形成于所述第一透明导电层的下方。

进一步地,所述的触摸屏还包括:位于所述触摸屏的边缘用以避免边缘漏光的黑矩阵。

可选地,所述黑矩阵形成于所述透明基板上,且位于所述消影层的下方。

可选地,所述黑矩阵在所述第二透明导电层之后形成,且在所述保护层之前形成。

可选地,所述透明基板为显示面板的保护基板。

可选地,所述绝缘层采用下述任意一种或多种材料形成:SiO2,SiNx,有机透明绝缘材料。

可选地,所述消影层所述消影层包括Nb2O5膜层和SiO2膜层,或者,所述消影层包括Nb2O5膜层和SiNx膜层。

可选地,所述保护层采用下述任意一种或多种材料形成:OC,SiO2,SiNx。

本发明实施例还提供一种触摸显示装置,包括:任一项所述的触摸屏。

另一方面,本发明实施例还提供一种触摸屏的制造方法,包括:

形成图案化的第一透明导电层的工序;

形成图案化的绝缘层的工序;

形成图案化的第二透明导电层的工序;

其中,所述形成图案化的第一透明导电层的工序和所述形成图案化的第二透明导电层的工序中,其一工序形成多个驱动线,另一工序形成多个感应线;形成的所述绝缘层的图案与所述第一透明导电层的图案一致,或者与所述第二透明导电层的图案一致。

进一步地,所述形成图案化的第二透明导电层的工序之后,还包括:形成保护层的工序。

进一步地,所述形成图案化的第一透明导电层的工序之前,还包括:形成消影层的工序。

进一步地,上述的任意工序之间,还包括:形成黑矩阵的工序。

可选地,所述形成图案化的第一透明导电层的工序和/或所述形成图案化的第二透明导电层的工序中,

采用黄光制程或激光刻蚀工艺,形成所述图案化的第一透明导电层或所述形成图案化的第二透明导电层。

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