[发明专利]触摸屏及其制作方法、触摸显示装置

权利要求书

1.一种触摸屏，其特征在于，包括：透明基板，依次形成于所述透明基板之上的图案化的第一透明导电层、图案化的绝缘层以及图案化的第二透明导电层，其中，

所述第一透明导电层和所述第二透明导电层中，其一形成有多个驱动线，另一形成有多个感应线；所述绝缘层的图案与所述第一透明导电层的图案一致，或者与所述第二透明导电层的图案一致。

2.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，还包括：

保护层，形成于所述第二透明导电层上。

3.根据权利要求2所述的触摸屏，其特征在于，还包括：

消影层，形成于所述第一透明导电层的下方。

4.根据权利要求3所述的触摸屏，其特征在于，还包括：位于所述触摸屏的边缘用以避免边缘漏光的黑矩阵。

5.根据权利要求4所述的触摸屏，其特征在于，所述黑矩阵形成于所述透明基板上，且位于所述消影层的下方。

6.根据权利要求4所述的触摸屏，其特征在于，所述黑矩阵在所述第二透明导电层之后形成，且在所述保护层之前形成。

7.根据权利要求1-6任一项所述的触摸屏，其特征在于，

所述透明基板为显示面板的保护基板。

8.根据权利要求1-6任一项所述的触摸屏，其特征在于，所述绝缘层采用下述任意一种或多种材料形成：

SiO₂，SiNx，有机透明绝缘材料。

9.根据权利要求2所述的触摸屏，其特征在于，所述消影层包括Nb₂O₅膜层和SiO₂膜层，或者，

所述消影层包括Nb₂O₅膜层和SiNx膜层。

10.根据权利要求2-6任一项所述的触摸屏，其特征在于，所述保护层采用下述任意一种或多种材料形成：

OC，SiO₂，SiNx。

11.一种触摸显示装置，其特征在于，包括：权利要求1-10任一项所述的触摸屏。

12.一种触摸屏的制造方法，其特征在于，包括：

形成图案化的第一透明导电层的工序；

形成图案化的绝缘层的工序；

形成图案化的第二透明导电层的工序；

其中，所述形成图案化的第一透明导电层的工序和所述形成图案化的第二透明导电层的工序中，其一工序形成多个驱动线，另一工序形成多个感应线；形成的所述绝缘层的图案与所述第一透明导电层的图案一致，或者与所述第二透明导电层的图案一致。

13.根据权利要求12所述的制造方法，其特征在于，所述形成图案化的第二透明导电层的工序之后，还包括：形成保护层的工序。

14.根据权利要求13所述的制造方法，其特征在于，所述形成图案化的第一透明导电层的工序之前，还包括：

形成消影层的工序。

15.根据权利要求14所述的制造方法，其特征在于，上述的任一工序之前或之后，还包括：

形成黑矩阵的工序。

16.根据权利要求12所述的制造方法，其特征在于，所述形成图案化的第一透明导电层的工序和/或所述形成图案化的第二透明导电层的工序中，

采用黄光制程或激光刻蚀工艺，形成所述图案化的第一透明导电层或所述形成图案化的第二透明导电层。