[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 201410454214.6 申请日: 2014-09-05
公开(公告)号: CN104916598B 公开(公告)日: 2019-06-14
发明(设计)人: 铃谷信人;中村三昌;尾山胜彦;川村英树;青木秀夫 申请(专利权)人: 东芝存储器株式会社
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L23/498;H01L25/16
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 张世俊
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 半导体 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体装置,其特征在于包括:

绝缘基板,其包含第1及第2主面;

第1半导体芯片,其配置在所述第1主面上;

第2半导体芯片,其配置在所述第1半导体芯片上,且控制所述第1半导体芯片;

多个连接端子,其等配置在所述第1主面上;

外部端子,其配置在所述第2主面上;

多个连接构件,其等将所述第2半导体芯片与所述多个连接端子连接;

多条数据信号配线,其等包含连接于所述多个连接端子的任一者的一端、连接于所述第1半导体芯片或所述外部端子的另一端、及在所述第1主面上的第1区域内相邻而配置的中间部;

多条非数据信号配线,其等包含连接于所述多个连接端子的任一者的一端、连接于所述第1半导体芯片或所述外部端子的另一端、及在与所述第1主面上的所述第1区域不同的第2区域配置的中间部;以及

导电性及顺磁性的导体层,其间隔地覆盖在所述第1区域配置的所述数据信号配线的中间部。

2.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于:所述多条数据信号配线的各自的数据的传输速度是200Mbps以上,且

所述导体层的厚度是1μm以上。

3.根据权利要求1或2所述的半导体装置,其特征在于:所述多条数据信号配线与所述导体层的间隔是10μm以上、且20μm以下。

4.根据权利要求1或2所述的半导体装置,其特征在于:所述导体层使用Cu、Al、或Mg。

5.根据权利要求1或2所述的半导体装置,其特征在于:所述多条数据信号配线的条数是3条以上。

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