[发明专利]半导体装置有效
申请号: | 201410454214.6 | 申请日: | 2014-09-05 |
公开(公告)号: | CN104916598B | 公开(公告)日: | 2019-06-14 |
发明(设计)人: | 铃谷信人;中村三昌;尾山胜彦;川村英树;青木秀夫 | 申请(专利权)人: | 东芝存储器株式会社 |
主分类号: | H01L23/31 | 分类号: | H01L23/31;H01L23/498;H01L25/16 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
1.一种半导体装置,其特征在于包括:
绝缘基板,其包含第1及第2主面;
第1半导体芯片,其配置在所述第1主面上;
第2半导体芯片,其配置在所述第1半导体芯片上,且控制所述第1半导体芯片;
多个连接端子,其等配置在所述第1主面上;
外部端子,其配置在所述第2主面上;
多个连接构件,其等将所述第2半导体芯片与所述多个连接端子连接;
多条数据信号配线,其等包含连接于所述多个连接端子的任一者的一端、连接于所述第1半导体芯片或所述外部端子的另一端、及在所述第1主面上的第1区域内相邻而配置的中间部;
多条非数据信号配线,其等包含连接于所述多个连接端子的任一者的一端、连接于所述第1半导体芯片或所述外部端子的另一端、及在与所述第1主面上的所述第1区域不同的第2区域配置的中间部;以及
导电性及顺磁性的导体层,其间隔地覆盖在所述第1区域配置的所述数据信号配线的中间部。
2.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于:所述多条数据信号配线的各自的数据的传输速度是200Mbps以上,且
所述导体层的厚度是1μm以上。
3.根据权利要求1或2所述的半导体装置,其特征在于:所述多条数据信号配线与所述导体层的间隔是10μm以上、且20μm以下。
4.根据权利要求1或2所述的半导体装置,其特征在于:所述导体层使用Cu、Al、或Mg。
5.根据权利要求1或2所述的半导体装置,其特征在于:所述多条数据信号配线的条数是3条以上。
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