[发明专利]显示面板、彩色滤光基板及其制造方法、制造设备有效

专利信息
申请号: 201410449594.4 申请日: 2014-09-04
公开(公告)号: CN104217652A 公开(公告)日: 2014-12-17
发明(设计)人: 郑华 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G09F9/30 分类号: G09F9/30;G03F7/20
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 何青瓦
地址: 518000 广东省深圳市光明新区公*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 显示 面板 彩色 滤光 及其 制造 方法 设备
【权利要求书】:

1.一种彩色滤光基板的制造方法,其特征在于,包括:

提供玻璃基板,所述玻璃基板包括可弯折区域;

在玻璃基板的一表面形成待图案化的蚀刻材料层;

对所述蚀刻材料层进行蚀刻以在玻璃基板上形成黑色矩阵,并至少使在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度,以使得在所述可弯折区域发生弯折时所述可弯折区域中的部分黑色矩阵位于像素之间不透光区的垂直投影区域内。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,

所述对所述蚀刻材料层进行蚀刻以在玻璃基板上形成黑色矩阵,并至少使在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度的步骤包括:

使用第一光罩对所述蚀刻材料层进行一次曝光,以在玻璃基板上形成具有预定宽度的黑色矩阵;

将第二光罩叠加在所述第一光罩上,使用叠加的所述第一光罩和第二光罩对所述蚀刻材料层进行二次曝光,以使在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度减小,进而使得在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,

所述在玻璃基板的一表面形成待图案化的蚀刻材料层的步骤包括:

在所述玻璃基板的一表面形成待图案化的正光阻材料层,以形成所述蚀刻材料层;

其中,所述第一光罩在黑色矩阵的垂直投影区域的部分为遮光区,所述第一光罩的其他部分为透光区,所述第二光罩对应所述可弯折区域的部分为透光区,所述第二光罩的其他部分为遮光区。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,

在对所述蚀刻材料层进行蚀刻的步骤之前,包括制作所述第二光罩的步骤;

所述制作所述第二光罩的步骤包括:

提供一不透光遮挡板和一曲面显示面板,所述曲面显示面板为使用与所述玻璃基板相同尺寸的彩色滤光基板制成;

驱动所述曲面显示面板显示,并对所述曲面显示面板在显示时出现的阴影区域进行标记;

将所述曲面显示面板铺展,根据所述曲面显示面板上标记的阴影区域,对所述不透光遮挡板进行镂空处理,以在所述不透光遮挡板上形成与所述阴影区域的形状和大小相同的镂空区域,进而得到所述第二光罩。

5.一种彩色滤光基板,其特征在于,包括玻璃基板和黑色矩阵;

所述玻璃基板包括可弯折区域,所述黑色矩阵位于所述玻璃基板上,且位于所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度,以使得在所述可弯折区域发生弯折时所述可弯折区域中的部分黑色矩阵位于像素之间不透光区的垂直投影区域内。

6.一种显示面板,其特征在于,包括阵列基板和彩色滤光基板;

所述阵列基板包括像素透光区和像素之间的不透光区;所述彩色滤光基板包括玻璃基板和黑色矩阵;

所述玻璃基板包括可弯折区域,所述黑色矩阵位于所述玻璃基板上,且位于所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度,以使得在所述可弯折区域发生弯折时所述可弯折区域中的部分黑色矩阵位于所述像素之间的不透光区的垂直投影区域内。

7.一种彩色滤光基板的制造设备,其特征在于,包括:

基板提供机构,用于提供玻璃基板,所述玻璃基板包括可弯折区域

涂布机构,用于在玻璃基板的一表面形成待图案化的蚀刻材料层;

蚀刻机构,用于对所述蚀刻材料层进行蚀刻以在玻璃基板上形成黑色矩阵,并至少使在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度,以使得在所述可弯折区域发生弯折时所述可弯折区域中的部分黑色矩阵位于像素之间不透光区的垂直投影区域内。

8.根据权利要求7所述的制造设备,其特征在于,

所述蚀刻机构包括第一光罩和第二光罩,

所述第一光罩用于对所述蚀刻材料层进行一次曝光,以在玻璃基板上形成具有预定宽度的黑色矩阵;

所述第二光罩用于在所述一次曝光之后,叠加至所述第一光罩上,以使用叠加的所述第一光罩和第二光罩对所述蚀刻材料层进行二次曝光,以使在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度减小,进而使得在所述可弯折区域中的部分黑色矩阵的宽度小于其他区域的黑色矩阵的宽度。

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