[发明专利]介质处理装置及其介质输送方法

权利要求书

1.一种介质处理装置，其特征在于，具有：

介质处理部，对薄片状的介质进行给定的处理；

介质输送路径，经由该介质处理部的介质处理位置；

供给部，向该介质输送路径供给所述介质；

第1输送辊，在从该供给部朝向所述介质处理位置的中途的介质进给位置，输送所述介质；以及

控制部，控制该第1输送辊所进行的所述介质的输送动作，

该控制部，

当在从所述供给部朝向所述介质处理位置的第1方向上被输送的所述介质的所述第1方向侧的端部通过了所述介质进给位置之后，向与所述第1方向反向的第2方向输送所述介质，进行使所述介质的所述第1方向侧的端部后退至比所述介质进给位置更靠所述供给部侧的位置的歪斜消除动作，

在该歪斜消除动作中，使作为向所述第2方向的所述介质的输送速度的第2速度较之于作为向所述第1方向的所述介质的输送速度的第1速度而设为低速。

2.根据权利要求1所述的介质处理装置，其特征在于，

在所述介质输送路径中，在所述介质进给位置与所述供给部之间设置输送负荷产生部，

在所述第2方向上以所述第2速度输送所述介质时的所述第1输送辊的输送力，要比在所述第2方向上所述介质以所述第2速度通过所述输送负荷产生部时的输送负荷更小。

3.根据权利要求2所述的介质处理装置，其特征在于，

所述输送负荷产生部具备：第2输送辊，与在所述第1方向上输送所述介质的所述第1输送辊同步地被旋转驱动，

当所述第1输送辊在所述第2方向上输送所述介质时，该第2输送辊能追踪在所述第2方向上被输送的所述介质并进行旋转。

4.根据权利要求3所述的介质处理装置，其特征在于，

所述输送负荷产生部具备：突出部，从在与所述第2输送辊的外周面之间空出间隙地配置的介质导向部件向所述第2输送辊侧突出，

该突出部与所述第2输送辊在所述第2输送辊的旋转轴线方向上相分离，且在该旋转轴线方向上进行观察的情况下所述突出部的前端与所述第2输送辊的外周部重叠。

5.一种介质输送方法，是介质处理装置中的介质输送方法，其特征在于，该介质处理装置从供给部向介质输送路径供给薄片状的介质，对被配置在从所述供给部朝向介质处理部的介质处理位置的中途的介质进给位置处的第1输送辊进行旋转驱动来输送所述介质，在所述介质处理位置处由所述介质处理部对所述介质进行给定的处理，将处理完的所述介质从所述介质输送路径排出，

当在从所述供给部朝向所述介质处理位置的第1方向上被输送的所述介质的所述第1方向侧的端部通过了所述介质进给位置之后，向与所述第1方向反向的第2方向输送所述介质，进行使所述介质的所述第1方向侧的端部后退至比所述介质进给位置更靠所述供给部侧的位置的歪斜消除动作，

在该歪斜消除动作中，使作为向所述第2方向的所述介质的输送速度的第2速度较之于作为向所述第1方向的所述介质的输送速度的第1速度而设为低速。