[发明专利]一种薄膜晶体管制作方法、系统及薄膜晶体管

权利要求书

1.一种薄膜晶体管制作方法，其特征在于，包括：

选取驱动基板；

在所述驱动基板上沉积金属导电膜层，形成栅电极图案、与栅电极图案相连的扫描线路，所述栅电极图案及扫描线路位于扫描线路层上；

在所述扫描线路层上方设置绝缘层；

在所述绝缘层上方形成氧化物半导体层；

在所述氧化物半导体层上设置数据线路层，所述数据线路层设置有源电极、漏电极、数据线路及转接线；

通过熔融方式使扫描线路的一端、转接线的一端及绝缘层熔融在一起；

所述与扫描线路熔融后的转接线的另一端与驱动基板的控制器相连。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过熔融方式使扫描线路的一端、转接线及绝缘层熔融在一起，具体为：

通过激光熔融方式使扫描线路的一端、转接线的一端及绝缘层熔融在一起。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述驱动基板上沉积金属导电膜层，形成栅电极图案、与栅电极图案相连的扫描线路，具体为：

在所述驱动基板上沉积金属导电膜层，采用黄光、蚀刻方式形成栅电极图案、与栅电极图案相连的扫描线路。

4.一种薄膜晶体管制作系统，其特征在于，包括：选取单元，与所述选取单元相连的第一制作单元，与所述第一制作单元相连的第二制作单元，与所述第二制作单元相连的第三制作单元，与所述第三制作单元相连第四制作单元，与所述第四制作单元相连的熔融模块，

所述选取单元用于选取驱动基板；

所述第一制作单元用于在所述驱动基板上沉积金属导电膜层，形成栅电极图案、与栅电极图案相连的扫描线路，所述栅电极图案及扫描线路位于扫描线路层上；

所述第二制作单元用于在所述扫描线路层上方设置绝缘层；

所述第三制作单元用于在所述绝缘层上方形成氧化物半导体层；

所述第四制作单元用于在所述氧化物半导体层上方设置数据线路层，所述数据线路层设置有源电极、漏电极、数据线路及转接线；

所述熔融模块用于通过熔融方式将扫描线路的一端、转接线的一端与绝缘层熔融在一起，并使与所述扫描线路熔融后的转接线的另一端与驱动基板的控制器相连。

5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述熔融模块具体为：激光器，

所述激光器通过熔融方式将扫描线路的一端、转接线的一端与绝缘层熔融在一起，并使与所述扫描线路熔融后的转接线的另一端与驱动基板的控制器相连。

6.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，还包括：与所述第一制作单元相连的蚀刻单元，

所述蚀刻单元用于在所述第一制作单元在所述驱动基板上沉积金属导电膜层之后，利用黄光、蚀刻方式形成栅电极图案及扫描线路。

7.一种薄膜晶体管，其特征在于，包括：由下至上依次设置的驱动基板、扫描线路层单元、绝缘层单元、半导体层单元及数据线路层单元，其中，所述扫描线路层单元设置于所述驱动基板上，

所述扫描线路层单元包括：栅电极图案、与栅电极图案相连的扫描线路；

所述数据线路层单元包括：源电极、漏电极、数据线路和转接线；

所述扫描线路的一端、转接线的一端及绝缘层熔融在一起，使所述与扫描线路的一端熔融后的转接线的另一端与驱动基板的控制器相连。

8.根据权利要求7所述的薄膜晶体管，其特征在于，所述扫描线路层单元具体为：

在所述驱动基板上沉积金属导电膜层，采用黄光、蚀刻方式形成栅电极图案、与栅电极图案相连的扫描线路。