[发明专利]一种酸值可控光敏碱溶性聚氨酯丙烯酸酯树脂及其光刻胶组合物

权利要求书

1.一种酸值可控光敏碱溶性聚氨酯丙烯酸酯树脂，其特征在于制备步骤如下：

(1)在常压条件下，将异氰酸酯化合物加入反应容器中，向其中加入溶剂，催化剂，然后加入含羧基的二元醇，机械搅拌，温度控制在70～85℃，反应时间2～4h；

(2)在上述温度下，加入阻聚剂，然后加入含羟基的丙烯酸酯单体进行封端，反应时间4～6h，得到聚氨酯丙烯酸酯树脂。

2.根据权利要求1所述的一种光敏碱溶性聚氨酯丙烯酸酯树脂的制备方法，其特征在于所述异氰酸酯化合物为甲苯二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯中的一种。

3.根据权利要求1所述的一种光敏碱溶性聚氨酯丙烯酸酯树脂的制备方法，其特征在于所述催化剂为有机锡类催化剂、叔胺类催化剂中的至少一种，用量为总投料量的0.01wt％～0.05wt％。

4.根据权利要求1所述的一种光敏碱溶性聚氨酯丙烯酸酯树脂的制备方法，其特征在于所述溶剂为N，N-二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮、丙酮中的一种或几种，其用量为10wt％～35wt％。

5.根据权利要求1所述的一种光敏碱溶性聚氨酯丙烯酸酯树脂的制备方法，其特征在于所述含羧基的二元醇为2，2-二羟甲基丙酸、2，2-二羟甲基丁酸中的一种。

6.根据权利要求1所述的一种光敏碱溶性聚氨酯丙烯酸酯树脂的制备方法，其特征在于所述阻聚剂为对羟基苯甲醚、对苯二酚、间苯二酚、2，6-二叔丁基对甲酚中的一种或多种，其用量为总投料量的0.1wt％～0.5wt％。

7.根据权利要求1所述的一种光敏碱溶性聚氨酯丙烯酸酯树脂的制备方法，其特征在于所述含羟基的丙烯酸酯单体为丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟丙酯、甲基丙烯酸羟丙酯、丙烯酸羟丁酯、季戊四醇三丙烯酸酯中的一种或多种。

8.一种由权利要求1所述聚氨酯丙烯酸酯为成膜树脂的光刻胶组合物，其特征在于所述组合物所含组分及各组分的质量百分数为：

9.根据权利要求8所述的光刻胶组合物，其特征在于所述光引发剂为2-甲基-1-(4-甲巯基苯基)-2-吗啉-1-丙酮(907)、异丙基硫杂蒽酮(ITX)、2，4-二乙基硫咋蒽酮(DETX)、2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦(TPO)、N-苯基甘胺酸(NPG)、4，4-二(N，N’-二甲基-氨基)苯甲酮(EMK)、邻氯代六芳基双咪唑(BCIM)、二苯甲酮(BP)中的一种或多种。

10.根据权利要求8所述的光刻胶组合物，其特征在于所述活性稀释剂为丙烯酸异冰片酯、三丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二羟甲基丙烷四丙烯酸酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯中的一种或多种。

11.根据权利要求8所述的光刻胶组合物，其特征在于所述颜料为钛箐蓝。

12.根据权利要求8所述的光刻胶组合物，其特征在于所述溶剂为丙酮、N，N-二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮、丙二醇甲醚醋酸酯、乙酸丁酯中的一种或多种。

13.根据权利要求8所述的负性光致抗蚀剂组合物的显影条件：

(a)将权利要求8所述的光刻胶组合物涂覆在铜箔上，在75～90℃下预烘一段时间；

(b)将菲林片覆盖在烘好的样品上，在一定曝光能量下曝光；

(c)将曝光好的样品置于碱液中显影，得到光致抗蚀剂图案。