[发明专利]一种半导体生产工艺配方的管控方法及系统

权利要求书

1.一种半导体生产工艺配方的管控方法，其特征在于，所述半导体工艺配方的管控方法至少包括步骤：

1)提供存储有关联配方的一组工艺设备；

2)识别其中一个工艺设备上存储的配方为基准配方；

3)将该组中其他工艺设备上存储的配方与所述基准配方一一参照对比，并生成差异报表，判断差异报表中每一个工艺设备的配方与基准配方的差异信息，若差异信息符合工艺要求，则投产；不符合则放弃投产。

2.根据权利要求1所述的半导体生产工艺配方的管控方法，其特征在于：具有相同的设备信息和配方编号的一组配方定义为关联配方，所述关联配方既体现组内配方的一致性，又体现组内配方的差异性，具有关联配方的一组工艺设备用于执行相同的工艺步骤。

3.根据权利要求2所述的半导体生产工艺配方的管控方法，其特征在于：所述设备信息包括设备型号、软件版本和生产用途。

4.根据权利要求1所述的半导体生产工艺配方的管控方法，其特征在于：所述步骤2)中采用系统识别模块来识别基准配方，所述基准配方为组内第一个授权投产的配方。

5.根据权利要求4所述的半导体生产工艺配方的管控方法，其特征在于：若系统识别模块无法识别基准配方，则手动选择产品产出质量最优的配方为基准配方。

6.一种半导体生产工艺配方的管控系统，其特征在于，所述半导体生产工艺配方的管控系统至少包括：

用于识别基准配方的识别模块；

用于对比关联配方中指定的配方与所述基准配方之间的差异并产生差异报表的对比模块；

用于显示所述差异信息的显示模块。

7.根据权利要求6所述的半导体生产工艺配方的管控系统，其特征在于：所述管控系统还包括与签核系统相连的签核系统接口模块，通过签核系统接口模块将产生的所述差异报表以附件的形式传递到所述签核系统中。

8.根据权利要求6所述的半导体生产工艺配方的管控系统，其特征在于：所述显示模块还用于显示指定工艺设备上配方的详细信息。

9.根据权利要求6所述的半导体生产工艺配方的管控系统，其特征在于：所述基准配方为组内第一个授权投产的配方。

10.根据权利要求6所述的半导体生产工艺配方的管控系统，其特征在于：所述基准配方为产品产出质量最优的配方。