[发明专利]平版印刷用聚合物的制造方法、抗蚀剂组合物的制造方法及形成有图案的基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种平版印刷用聚合物的制造方法、使用该制造方法所得到的平版印刷用聚合物制造抗蚀剂组合物的方法、及用该抗蚀剂组合物制造形成有图案的基板的方法。

背景技术

近年来，在半导体元件、液晶元件等的制造工序中形成的抗蚀剂图案，由于平版印刷技术的进步，精细化在渐渐推进，与其相伴，人们要求用于平版印刷工序的平版印刷用聚合物的高纯度化。

平版印刷用聚合物通常通过在聚合溶剂的存在下使单体进行聚合反应，得到含有聚合物的聚合反应溶液的方法来制造。得到的聚合反应溶液中，除了聚合溶剂中的聚合物外，还溶解有未反应的单体等不需要的成分，为了除去这些，已知的有采用将聚合反应溶液与不良溶剂混合，使聚合物沉淀后进行固液分离的再沉淀法纯化的方法。

专利文献1中记载了以下方法：由于将聚合反应溶液添加入不良溶剂使聚合物沉淀后固液分离而得到的湿粉中通常含有60～70重量％左右的沉淀操作所用的不良溶剂，因此将该湿粉用水洗涤，溶解于抗蚀剂用溶剂后，蒸馏除去该不良溶剂。

专利文献2的实施例中记载了以下方法：将聚合反应溶液添加入不良溶剂后，离心分离得到的湿粉的含液率在64～73重量％左右，将该湿粉溶解于二醇系溶剂中，通过减压蒸馏浓缩。

专利文献3的实施例记载了进行将聚合反应溶液添加入不良溶剂后，固液分离得到湿粉，再度与不良溶剂混合后进行固液分离的再浆化工序的方法。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2006-225516号公报

[专利文献2]日本专利特开2010-199764号公报

[专利文献3]日本专利特开2010-159393号公报

发明内容

[发明要解决的课题]

然而，以往的方法中，在随着抗蚀剂图案的精细化所要求的平版印刷用聚合物的高纯度化这一点上不能说很充分，期望进一步降低平版印刷用聚合物中残存的不良溶剂或单体。

本发明鉴于上述事项而成，目的在于提供一种制造降低未反应的单体或纯化工序所用的不良溶剂的残存量的平版印刷用聚合物的方法、使用该制造方法所得到的平版印刷用聚合物制造抗蚀剂组合物的方法、及用该抗蚀剂组合物制造形成有图案的基板的方法。

[解决课题的手段]

为解决上述课题，本发明的平版印刷用聚合物的制造方法具有聚合工序和纯化工序，所述聚合工序是使单体在聚合溶剂的存在下聚合，得到含有聚合物的聚合反应溶液的工序，所述纯化工序是将所述聚合反应溶液中的聚合物用再沉淀法纯化，得到纯化聚合物的湿粉的工序，所述纯化工序包括在过滤压差为50kPa以上的条件下进行过滤的工序，所述纯化聚合物的湿粉的固态成分含量超过40质量％、小于65质量％。

进一步地，优选具有使所述纯化聚合物的湿粉溶解于良溶剂的工序，直至所述纯化聚合物溶解于所述良溶剂时的该湿粉的温度优选在40℃以下。

所述纯化工序优选包括再沉淀工序，所述再沉淀工序是将所述聚合反应溶液与不良溶剂混合，使聚合物析出，通过过滤进行固液分离而得到湿粉的工序。

进一步地，优选实施漂洗工序和再浆化工序中的任一种或两种工序一次以上，得到所述纯化聚合物的湿粉，所述漂洗工序是使固液分离后的湿粉与漂洗溶剂接触后，通过过滤将该漂洗溶剂脱液而得到湿粉的工序，所述再浆化工序是将固液分离后的湿粉或漂洗后的湿粉与不良溶剂混合后，通过过滤固液分离而得到湿粉的工序。

优选在氮气气氛下进行所述过滤。

所述氮气气氛下进行的过滤，优选是加压过滤。

本发明提供了一种抗蚀剂组合物的制造方法，其具有通过本发明的平版印刷用聚合物的制造方法制造平版印刷用聚合物的工序、和将得到的平版印刷用聚合物与经活性光线或辐射线的照射产生酸的化合物混合的工序。

本发明提供了一种形成有图案的基板的制造方法，包括：通过本发明的抗蚀剂组合物的制造方法制造抗蚀剂组合物的工序、将得到的抗蚀剂组合物涂布于基板的被加工面上形 成抗蚀剂膜的工序、对该抗蚀剂膜曝光的工序和用显影液将曝光后的抗蚀剂膜显影的工序。

[发明的效果]

按照本发明，可得到残存单体及残存溶剂被进一步减少了的平版印刷用聚合物。这样的平版印刷用聚合物被更高纯度化，通过用其配制抗蚀剂组合物，可使灵敏度等的抗蚀剂性能提高。此外，通过用该抗蚀剂组合物制造形成有图案的基板，可以更稳定地形成高精度的微细抗蚀剂图案。

具体实施方式