[发明专利]一种去边宽度的监测晶圆及其制作方法在审
| 申请号： | 201410387724.6 | 申请日： | 2014-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN105448891A | 公开（公告）日： | 2016-03-30 |
| 发明（设计）人： | 栾会倩 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 汪洋;高伟 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 宽度 监测 及其 制作方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种去边宽度的监测晶圆，其中所述监测晶圆的边缘具有若干第一刻度尺图形，所述第一刻度尺图形带有刻度的边与所述监测晶圆的半径对齐，所述第一刻度尺图形的最小刻度至少为0.1mm。
2.根据权利要求1所述的监测晶圆，其特征在于，所述监测晶圆至少具有4个所述第一刻度尺图形，所述第一刻度尺图形彼此等间距地分布于所述监测晶圆的边缘四周。
3.根据权利要求1所述的监测晶圆，其特征在于，所述第一刻度尺图形的数量为8个。
4.根据权利要求1所述的监测晶圆，其特征在于，所述监测晶圆为硅晶圆。
5.根据权利要求1所述的监测晶圆，其特征在于，采用所述监测晶圆监测去边宽度的大小，通过人眼观察所述第一刻度尺图形的刻度，直接读取所述去边宽度的值。
6.一种如权利要求1-5中任一项所述的监测晶圆的制作方法，包括：
制作一光刻版，所述光刻版上包括若干第二刻度尺图形，计算所述第二刻度尺图形的刻度的大小，以保证将所述第二刻度尺图形光刻至所述监测晶圆上形成第一刻度尺图形之后，所述第一刻度尺图形的最小刻度至少为0.1mm；
提供监测晶圆，利用所述光刻版，在所述监测晶圆的边缘位置形成若干第一刻度尺图形，其中所述第一刻度尺图形带有刻度的边与所述监测晶圆的半径对齐。
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