[发明专利]光电调变堆叠

说明书

一种光电调变堆叠包括基板、多个触控感测单元、至少第一抗扰斑块以及纳米结构层。触控感测单元共平面地设置于基板上，相邻的触控感测单元之间形成第一间隙区。第一抗扰斑块设置于第一间隙区内，第一抗扰斑块的宽度远小于基板或触控感测单元的宽度。纳米结构层设置于第一抗扰斑块下，并具有多个纳米结构。当光线通过这些纳米结构及第一抗扰斑块时，光线的光学特性改变。

技术领域

本发明涉及一种调变堆叠，特别涉及一种光电调变堆叠。

背景技术

近年来，触控技术已经逐渐广泛应用于一般的消费性电子商品上，例如行动通讯装置、数字相机、数字音乐播放器(MP3)、个人数字助理器(PDA)、卫星导航器(GPS)、掌上型计算机(hand-held PC)，甚至崭新的超级行动计算机(Ultra Mobile PC,UMPC)等。然而，现有的触控感测结构遇到良率下降的问题。

以一种习知的触控感测堆叠来说，其包含基板及多个触控感测组件，触控感测组件设置于基板上用以感测使用者的触控而产生电信号，电信号经过处理后即可得到使用者的触控坐标。然而，由于触控感测组件之间仅隔10μm～30μm之间的间隙，因此当工艺中有粒子掉落、刮伤产生或是弯折触控感测组件时，左右或上下相邻的触控感测组件很容易形成短路，而造成触控功能失效以及良率下降。

另外，在一揭露技术中(美国专利号US20040063041A)，基板上还设置抗眩聚亚酰胺涂层，以对外界入射光提供抗眩(anti-glare)效果。而如何将此抗眩功能应用至触控感测显示器也是重要课题。此外，对发光装置或显示装置而言，出光具有良好的特性也是相当重要的。

因此，如何提供一种光电调变堆叠，能够解决上述短路的问题，并提升触控效能、产品良率、出光特性与产品竞争力，实为当前重要课题之一。

发明内容

有鉴于上述课题，本发明的目的在于提供一种光电调变堆叠，能够解决工艺中造成短路的问题，并提升触控效能、产品良率、出光特性与产品竞争力。

为达上述目的，本发明的一种光电调变堆叠包括基板、多个触控感测单元、至少第一抗扰斑块以及纳米结构层。触控感测单元共平面地设置于基板上，相邻的触控感测单元之间形成第一间隙区。第一抗扰斑块设置于第一间隙区内，第一抗扰斑块的宽度远小于基板或触控感测单元的宽度。纳米结构层设置于第一抗扰斑块下，并具有多个纳米结构。当光线通过这些纳米结构及第一抗扰斑块时，光线的光学特性改变。

在一个实施例中，第一抗扰斑块呈弯折样式。

在一个实施例中，光电调变堆叠更包括接地单元以及至少第二抗扰斑块。接地单元与所述多个触控感测单元共平面，且与相邻的触控感测单元之间形成第二间隙区。第二抗扰斑块设置于第二间隙区内，第二抗扰斑块的宽度远小于基板或触控感测单元的宽度，纳米结构层更设置于第二抗扰斑块下。

在一个实施例中，通过该第一抗扰斑块设置于相邻触控感测单元所形成的第一间隙区之间，使相邻触控感测单元的间距加大、不会受到后续工艺的粒子污染而形成短路，从而提供电性抗扰的效用。

在一个实施例中，所述后续工艺至少包括机械薄化工艺、化学薄化工艺、机械化学薄化工艺、黄光工艺、薄膜沉积工艺、和/或薄膜蚀刻工艺。

在一个实施例中，光电调变堆叠更包含绝缘层，其具有抗眩(anti-glare)性质。

在一个实施例中，基板为软性基板或刚性基板。

在一个实施例中，纳米结构包含纳米铜或纳米银。

在一个实施例中，纳米结构层更包括基质，这些纳米结构设置于基质内。

在一个实施例中，基质与这些纳米结构的折射率不同。