[发明专利]湿法刻蚀装置及其刻蚀方法有效

专利信息
申请号: 201410351266.0 申请日: 2014-07-22
公开(公告)号: CN104091775A 公开(公告)日: 2014-10-08
发明(设计)人: 常建宇 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/311
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰;杨林
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 湿法 刻蚀 装置 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种湿法刻蚀装置,包括刻蚀槽(110)及设置在刻蚀槽(110)之内的多根滚轮(120),所述多根滚轮(120)用于承载待刻蚀的基板(150),其特征在于,所述湿法刻蚀装置还包括浸泡槽(130)及升降器(140),其中,所述浸泡槽(130)设置在所述刻蚀槽(110)之内,并位于所述滚轮(120)之下,所述升降器(140)设置在所述浸泡槽(130)的底板(131)的下表面上,所述升降器(140)推动所述浸泡槽(130)上升或下降,以使所述浸泡槽(130)中的刻蚀液浸没或脱离所述待刻蚀的基板(150)。

2.根据权利要求1所述的湿法刻蚀装置,其特征在于,所述浸泡槽(130)的第一侧板(132)和第二侧板(133)的厚度均小于任意两根所述滚轮(120)之间的最小间隔。

3.根据权利要求1或2所述的湿法刻蚀装置,其特征在于,所述浸泡槽(130)的第一侧板(132)和第二侧板(133)均沿竖直方向下降,以使所述第一侧板(132)和第二侧板(133)的顶面平齐于或低于所述底板(131)的上表面,从而使所述浸泡槽(130)中已使用的刻蚀液完全排出。

4.根据权利要求3所述的湿法刻蚀装置,其特征在于,所述湿法刻蚀装置还包括第一电磁阀(161)和第二电磁阀(162),其中,所述第一电磁阀(161)设置在所述第一侧板(132)上,用于控制所述第一侧板(132)上升或下降,所述第二电磁阀(162)设置在所述第二侧板(133)上,用于控制所述第二侧板(133)上升或下降。

5.根据权利要求1所述的湿法刻蚀装置,其特征在于,所述浸泡槽(130)由聚氯乙烯材料形成。

6.根据权利要求1所述的湿法刻蚀装置,其特征在于,所述升降器(140)的外表面包裹耐腐蚀性材料。

7.根据权利要求4所述的湿法刻蚀装置,其特征在于,所述第一电磁阀(161)和第二电磁阀(162)的外表面均包裹耐腐蚀性材料。

8.一种权利要求1至7任一项所述的湿法刻蚀装置的刻蚀方法,其特征在于,包括:

利用多根滚轮(120)将待刻蚀的基板(150)传送至刻蚀槽(110)中,同时在浸泡槽(130)中注满刻蚀液;

利用升降器(140)推动所述浸泡槽(130)上升,以使所述浸泡槽(130)中的刻蚀液浸没所述待刻蚀的基板(150),对所述待刻蚀的基板(150)进行刻蚀。

9.根据权利要求8所述的刻蚀方法,其特征在于,还包括:

在所述待刻蚀的基板(150)刻蚀完成之后,利用升降器(140)推动所述浸泡槽(130)下降,以使刻蚀液脱离经刻蚀的基板(150)。

10.根据权利要求9所述的刻蚀方法,其特征在于,还包括:

将所述浸泡槽(130)的相对的第一侧板(132)和第二侧板(133)沿竖直方向下降,以使所述第一侧板(132)和第二侧板(133)的顶面平齐于或低于所述底板(131)的上表面,从而使所述浸泡槽(130)中已使用的刻蚀液完全排出。

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