[发明专利]一种便于在线维护的膜厚监控设备及其维护工艺

说明书

技术领域

本发明涉及一种应用于真空制膜镀膜机中监控膜厚及镀膜速率的监控仪器设备，尤指一种在对膜厚监控仪器设备进行维护时不需要停止生产作业线的一种便于在线维护的膜厚监控设备及其维护工艺。

背景技术

随着科技的发展，出现了很多性能凸显的产品，如LED原件、发光二极管、显示器、钢化玻璃等，而在对这些产品使用时，为了延长产品的使用寿命或提高产品的质量，通常会对这些产品进行制备薄膜或镀膜保护，而在制膜或镀膜过程中通常是采用真空镀膜机在真空的状态下进行制膜镀膜， 真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种，这些生产设备及工艺通常都是在真空状态下进行，这样才能提高及准确监控到制膜或镀膜的质量，在对制膜或镀膜的膜厚及速率进行监控时，通常是采用监控仪器设备，监控仪器设备的重要部件就是监控探头，由于监控探头的成分通常是石英晶精准片，在使用时间长的时候要对监控仪器设备或监控探头进行更换、维修、养护等维护工作，由于监测探头、晶片等都处于工作炉子内部，通常在进行维护工作时，会把整个作业线停止，然后将监控仪器设备工作所在工作炉体的真空空间进行放气后，使得真空空间不再是真空状态，这时再通过机械手或人工进入工作炉体进行维护工作，所以进行维护工作时停止整个生产作业线会给生产带来很多不便，同时如人工进入工作炉体进行维护工作会使得工作炉体的清洁度遭到破坏，不仅增加维护成本，消耗大量因停工或处置真空状态的时间，更重要的加大了维护的难度，且维护精度不高。

发明内容

为了弥补现有技术中的的不足，本发明旨在提供一种应用于真空制膜镀膜机中监控膜厚及镀膜速率的监控仪器设备，包括应用于真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种，尤指一种在对膜厚监控仪器设备进行维护时不需要停止生产作业线的一种便于在线维护的膜厚监控设备及其维护工艺。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：一种便于在线维护的膜厚监控设备，所述的设备主要包括监控系统、控制系统和工作炉体，监控系统与工作炉体连接，控制系统与监控系统电性相连；所述的监控系统包括监控探测仪、腔体和密封端盖，监控探测仪为带有监控探头的长条杆状，可伸缩移动安装在腔体内部，从腔体一端贯穿腔体内部延伸到另外一端；当监控探测仪处于工作状态时，控制系统控制监控探测仪往密封端盖方向伸长移动，使得探头部分贯穿密封端盖延伸在腔体外；当监控探测仪处于维护状态时，控制系统控制监控探测仪背向密封端盖侧收缩移动，使得探头部分收缩在腔体内部；腔体正对收缩在腔体内部的探头位置上开设有通孔，通孔上安装有阀门，打开阀门后腔体内部通过阀门与外界环境相通，维护工具可以从阀门进入腔体内部对监控探测仪或探头进行维护，关闭阀门使得通孔处于密封状态；腔体上安装有气阀，气阀上连接有压力计；所述的腔体一端开口，密封端盖安装在腔体开口端，腔体通过密封端盖与工作炉体连接；所述的密封端盖密封镶嵌在工作炉体内部，当密封端盖关闭时，腔体内部与外界环境隔绝密封，当密封端盖打开时，腔体内部与外界环境相通。

所述的监控探测仪通过与气缸或马达连接可伸缩移动式安装在腔体内部。

所述的腔体为一端开口的圆柱体状。

所述的气阀可对腔体内部进行放气或抽气操作，压力计显示腔体内部的气压情况。

所述的密封端盖包括滑轨结构和密封块，滑轨结构直接安装在腔体的开口端上，密封块的厚度与滑轨结构上的滑槽相适配构成滑动连接，密封块沿着滑槽移动可打开或密封腔体。

所述的设备在正常工作时，监控系统通过将密封端盖密封镶嵌在工作炉体内部使得监控系统与工作炉体连接成一体。