[发明专利]一种用于精密光学元件的清洗装置

说明书

技术领域

本发明属于光学元件加工技术领域，具体涉及一种用于精密光学元件的清洗装置。

背景技术

随着光学仪器技术的不断发展，光学元件的洁净度指标也日益提高，较低的洁净度会使光学系统的性能明显下降，光学仪器的性能无法得到实现，在投影光刻物镜的应用领域，光学元件的洁净度尤其重要，细化到光学元件表面有机物的残余都需要降至很低。

投影光刻物镜的装配过程中，为获得良好的光学性能需要，对光学系统中光学元件的面形质量要求很高，从而相应地需要对光学元件进行深层次的细致清洁，以使光学加工质量得到保证。

现有传统清洗手段能够使光学元件达到一定的洁净度，但各工序的清洗环境往往难以得到保证、且清洗效率较低，劳动强度偏高，专利CN101204706A提到了一种光学元件清洗方法，利用包括超声在内的多步清洗对光学元件进行清洁，但未提到如何使各工序操作空间进行有序分离，因此需要一种将光学元件清洗所需洁净环境集成起来并实现各工序连续操作的清洗装置。

发明内容

本发明的目的是为了解决现有的光学原件的清洗方法清洗效率较低、劳动强度偏高的问题，而提供一种用于精密光学元件的清洗装置。

本发明提供一种用于精密光学元件的清洗装置，该装置包括上挡板、前挡板、后挡板、左挡板、右挡板、左拉门、右拉门、传送带、操作台、洁净手套、空气过滤模块、工序隔板、强光手电、清洗剂和清洗工具盒；

所述的空气过滤模块设置在上挡板上，左拉门和右拉门分别设置在左挡板和右挡板上，传送带设置在操作台上；

所述的上挡板、前挡板、后挡板、左挡板和右挡板形成一个密闭空间，工序隔板设置在密闭空间内，且将密闭空间隔成多个工位，清洗剂和清洗工具盒分别设置在各个工位上，强光手电固定在密闭空间的上挡板上；

所述的前挡板还设置观察窗和两个操作孔，洁净手套通过两个操作孔插入密闭空间对被清洗光学原件进行清洗。

本发明所述的装置还包括镜片托盘，所述的镜片托盘设置在传送带上，用于传送被清洗光学原件。

本发明所述的工序隔板将密闭空间隔成三个工位。

本发明所述的清洗剂和清洗工具盒分离设置在各个工位上。

本发明所述的强光手电通过手电柔性架固定在密闭空间的上挡板上。

本发明所述的装置还包括压缩空气气枪，所述的压缩空气气枪设置在密闭空间内。

本发明的有益效果

本发明提供一种用于精密光学元件的清洗装置，和现有技术相对比，本发明将清洗光学元件所需的暗室、洁净室、强光光源、清洗剂、清洗工具结合起来，大大节省了清洗光学元件的空间需求和时间消耗，各工序之间分离开避免交叉污染，并采用自动传送带以提高清洗效率，降低劳动强度，且应用范围广泛。

附图说明

图1为本发明用于精密光学元件的清洗装置的整体结构示意图。

图2为本发明用于精密光学元件的清洗装置的内部结构示意图。

图3为本发明用于精密光学元件的清洗装置中各工位示意图。

图4为本发明用于精密光学元件的清洗装置手电柔性架示意图。

图5为本发明用于精密光学元件的清洗装置前挡板示意图。

图6为本发明用于精密光学元件的清洗装置上挡板示意图。

图7为本发明用于精密光学元件的清洗装置加入压缩空气气枪后的局部示意图。

图中：1、上挡板，1-1、空气交换窗，1-2、空气过滤模块安装孔，1-3、上挡板安装孔，2、被清洗光学元件，3、镜片托盘，4、传送带，5、操作台，6、洁净手套，7、右拉门，8、右挡板，9、空气过滤器模块，10、前挡板，10-1、观察窗，10-2、操作孔，10-3、洁净手套压圈安装孔，11、后挡板，12、左挡板，13、左拉门，14、工序隔板，15、强光手电，16、手电柔性架，16-1、夹头，16-2、可调节臂，16-3、安装法兰，17、清洗剂，18、清洗工具盒，19、侧支架，20、洁净手套压圈，21、压缩空气气枪。

具体实施方式

结合图1～2说明本实施方式，一种用于精密光学元件的清洗装置，该装置包括上挡板1、前挡板10、后挡板11、左挡板12、右挡板8、左拉门13、右拉门7、传送带4、操作台5、洁净手套6、空气过滤模块9、工序隔板14、强光手电15、清洗剂17和清洗工具盒18；