[发明专利]一种用于精密光学元件的清洗装置

权利要求书

1.一种用于精密光学元件的清洗装置，其特征在于，该装置包括上挡板(1)、前挡板(10)、后挡板(11)、左挡板(12)、右挡板(8)、左拉门(13)、右拉门(7)、传送带(4)、操作台(5)、洁净手套(6)、空气过滤模块(9)、工序隔板(14)、强光手电(15)、清洗剂(17)和清洗工具盒(18)；

所述的空气过滤模块(9)设置在上挡板(1)上，左拉门(13)和右拉门(7)分别设置在左挡板(12)和右挡板(8)上，传送带(4)设置在操作台(5)上；

所述的上挡板(1)、前挡板(10)、后挡板(11)、左挡板(12)和右挡板(8)形成一个密闭空间，工序隔板(14)设置在密闭空间内，且将密闭空间隔成多个工位，清洗剂(17)和清洗工具盒(18)分别设置在各个工位上，强光手电(15)固定在密闭空间的上挡板(1)上；

所述的前挡板(10)还设置观察窗(10-1)和操作孔(10-2)，洁净手套(6)通过操作孔(10-2)插入密闭空间对被清洗光学原件(2)进行清洗。

2.根据权利要求1所述的一种用于精密光学元件的清洗装置，其特征在于，所述的装置还包括镜片托盘(3)，所述的镜片托盘(3)设置在传送带(4)上，用于传送被清洗光学原件(2)。

3.根据权利要求1所述的一种用于精密光学元件的清洗装置，其特征在于，所述的工序隔板(14)将密闭空间隔成三个工位。

4.根据权利要求1所述的一种用于精密光学元件的清洗装置，其特征在于，所述的清洗剂(17)和清洗工具盒(18)分离设置在各个工位上。

5.根据权利要求1所述的一种用于精密光学元件的清洗装置，其特征在于，所述的强光手电(15)通过手电柔性架(16)固定在密闭空间的上挡板(1)上。

6.根据权利要求1所述的一种用于精密光学元件的清洗装置，其特征在于，所述的装置还包括压缩空气气枪(21)，所述的压缩空气气枪(21)设置在密闭空间内。