[发明专利]一种高阻隔膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201410341343.4 申请日: 2014-07-17
公开(公告)号: CN104149446A 公开(公告)日: 2014-11-19
发明(设计)人: 张蔚萍 申请(专利权)人: 上海唐科新型包装材料有限公司
主分类号: B32B27/08 分类号: B32B27/08;B32B27/34;B32B27/32;B32B27/30;B32B7/12;B32B33/00;B29C69/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 赵青朵
地址: 201508 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 阻隔 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种高阻隔膜,包括依次接触的第一聚酰胺层、第一粘结剂层、第一聚乙烯层、第二粘结剂层、第二聚酰胺层、聚偏氯乙烯层、第三聚酰胺层、第三粘结剂层和第二聚乙烯层。

2.根据权利要求1所述的高阻隔膜,其特征在于,所述聚偏氯乙烯层的厚度为1μm~20μm。

3.根据权利要求1所述的高阻隔膜,其特征在于,所述聚偏氯乙烯层材质为聚偏氯乙烯;

所述聚偏氯乙烯中氯乙烯链段的质量含量为80%~95%。

4.根据权利要求1所述的高阻隔膜,其特征在于,所述第一聚酰胺层的材质为聚酰胺;

所述聚酰胺包括聚酰胺6和聚酰胺12;

所述聚酰胺6和聚酰胺12的质量比为85~90:10~15。

5.根据权利要求1所述的高阻隔膜,其特征在于,所述第二聚酰胺层的材质为聚酰胺;

所述聚酰胺包括聚酰胺6。

6.根据权利要求1所述的高阻隔膜,其特征在于,所述第三聚酰胺层的材质为聚酰胺;

所述聚酰胺包括聚酰胺6。

7.根据权利要求1所述的高阻隔膜,其特征在于,所述第一聚乙烯层的材质为聚乙烯;

所述聚乙烯包括低密度聚乙烯。

8.根据权利要求1所述的高阻隔膜,其特征在于,所述第二聚乙烯层的材质为聚乙烯;

所述聚乙烯包括线性低密度聚乙烯、低密度聚乙烯和茂金属线性低密度聚乙烯;

所述线性低密度聚乙烯、低密度聚乙烯和茂金属线性低密度聚乙烯的质量比为(36~42):(18~24):(38~42)。

9.根据权利要求1所述的高阻隔膜,其特征在于,所述高阻隔膜的厚度为25μm~250μm。

10.一种权利要求1~9任意一项所述高阻隔膜的制备方法,包括以下步骤:

将第一聚酰胺、第一粘结剂、第一聚乙烯、第二粘结剂、第二聚酰胺、聚偏氯乙烯、第三聚酰胺、第三粘结剂和第二聚乙烯分别熔融,熔融后共挤出,得到膜前体;

将所述膜前体吹塑、冷却定型,得到高阻隔膜。

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