[发明专利]溅射装置

说明书

本申请的发明提供一种溅射装置，为了不使自成膜辊脱离而输送到下游侧输送辊的长条膜基材因急剧的冷却而发生变形，该溅射装置构成为包括真空室(14)、成膜辊(18)、靶材(20)、气体供给机构(24)、3根驱动辊(下游侧输送辊)(26(1)、26(2))、26(3))、以及用于将各驱动辊(26(1)、26(2)、26(3))的温度维持在80℃以下且比真空室(14)内的最低温度高的范围内的大致恒定温度的3个温度调节机构(30(1)、30(2)、30(3))。

技术领域

本发明涉及一种用于在沿着成膜辊的表面输送的长条膜基材的表面上形成薄膜的溅射装置。

背景技术

以往以来，使用在真空室内配置有如下构件的溅射装置：原料卷，其卷绕有长条膜基材；成膜辊，其使长条膜基材沿着其表面；靶材，其用于在沿着成膜辊的表面输送的长条膜基材的表面上形成成膜材料；气体供给机构，其用于向成膜辊与靶材之间的成膜空间供给气体；下游侧输送辊，其用于将沿着成膜辊的表面输送过来的长条膜基材向输送方向下游侧输送；以及卷取辊，其用于将自下游侧输送辊输送至输送方向下游侧的长条膜基材卷取(例如，参照专利文献1的说明书第0012段落、说明书第0023段落和图1。)。经该溅射装置溅射处理后的长条膜基材被用作触摸面板的表面面板等。

在该溅射装置中，例如，在沿着成膜辊输送由聚对苯二甲酸乙二醇酯构成的长条膜基材的情况下，以铟·锡合金为靶材，将由氧气构成的反应性气体连同由氩气构成的非活性气体一起向成膜空间供给，靶材用于在长条膜基材的表面上形成成膜材料。由此，在长条膜基材的表面上连续地形成铟·锡氧化物(ITO)薄膜。

此处，为了在长条膜基材上进行成膜，需要利用内置的加热器将成膜辊加热至60℃～70℃。因此，在成膜辊上成膜后的长条膜基材被输送至输送方向下游侧的下游侧输送辊而与成膜辊脱离时，与下游侧输送辊接触的长条膜基材会被急剧地冷却到接近下游侧输送辊的温度的温度。例如，在下游侧输送辊的温度与真空室内的室温相同的情况下，输送至下游侧输送辊的长条膜基材会被急剧地冷却到接近真空室内的室温的温度。

由此，有时会产生以下问题：输送到下游侧输送辊而被急剧地冷却的长条膜基材发生变形，不能作为触摸面板的表面面板等使用或者外观方面不佳。尤其是，在长条膜基材的宽度较大的情况下或长条膜基材的线膨胀系数较大的情况下，这样的问题显著地发生。

专利文献1：日本特开2003－328124号公报

发明内容

发明要解决的问题

本发明是鉴于以往的溅射装置中存在的上述那样的问题而做出的发明。即，本申请的发明的目的在于，提供一种不会使自成膜辊脱离而输送至下游侧输送辊的长条膜基材因急剧的冷却而变形的溅射装置。

用于解决问题的方案

一种溅射装置，其用于在沿着成膜辊的表面输送的长条膜基材的表面上形成薄膜，其中，该溅射装置包括：真空室；上述成膜辊，其以能够旋转的方式配置于上述真空室内；靶材，其为1个或多个，配置于上述真空室内，用于在沿着上述成膜辊的表面输送的长条膜基材的表面上形成成膜材料；气体供给机构，其用于向上述成膜辊与上述靶材之间的成膜空间供给气体；下游侧输送辊，其为多根，配置于上述真空室内的、相对于上述成膜辊而言的长条膜基材的输送方向下游侧，用于将沿着上述成膜辊的表面输送过来的长条膜基材向该输送方向下游侧输送；以及温度调节机构，其用于将多根上述下游侧输送辊中的至少1根下游侧输送辊的温度维持在80℃以下且在比上述真空室内的最低温度高的范围内维持大致恒定。

下游侧输送辊是配置在比成膜辊靠长条膜的输送方向下游侧的输送辊，其包括利用驱动部件旋转的驱动辊和能够自由旋转的导辊。真空室内的最低温度指的是，设置在真空室内的辊等固体的温度或在真空室内存在的气体的温度中的最低的温度。