[发明专利]投影屏幕以及投影屏幕的制作方法在审
| 申请号: | 201410320283.8 | 申请日: | 2014-07-04 |
| 公开(公告)号: | CN105223766A | 公开(公告)日: | 2016-01-06 |
| 发明(设计)人: | 苏方旋;钟佳琪;陈凯俐 | 申请(专利权)人: | 中强光电股份有限公司 |
| 主分类号: | G03B21/56 | 分类号: | G03B21/56;G03B21/60 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李隆涛;蔡胜利 |
| 地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 投影 屏幕 以及 制作方法 | ||
1.一种投影屏幕,包括:
一可挠性基材,具有相对的一第一表面与一第二表面;
一反射层,配置于所述可挠性基材的所述第一表面上;以及
一透明涂层,涂布于所述反射层上,且所述透明涂层背向所述反射层的一表面上具有一图纹。
2.如权利要求1所述的投影屏幕,其特征在于,所述反射层面向所述透明涂层的一表面上包括多个光学微结构。
3.如权利要求2所述的投影屏幕,其特征在于,所述光学微结构为颗粒状。
4.如权利要求2所述的投影屏幕,其特征在于,所述光学微结构为棱镜状结构。
5.如权利要求4所述的投影屏幕,其特征在于,各所述光学微结构具有一顶角,且各所述顶角的角度相同。
6.如权利要求4所述的投影屏幕,其特征在于,各所述光学微结构具有一顶角,且至少部分所述光学微结构的所述顶角的角度不同。
7.如权利要求1所述的投影屏幕,其特征在于,所述反射层面向所述透明涂层的一表面为一平面。
8.如权利要求1所述的投影屏幕,其特征在于,所述反射层的厚度大于或等于20μm。
9.如权利要求1所述的投影屏幕,其特征在于,所述透明涂层的厚度小于或等于20μm。
10.如权利要求1所述的投影屏幕,其特征在于,所述透明涂层背向所述反射层的所述表面的表面粗糙度范围落在3μm至3.5μm之间。
11.如权利要求1所述的投影屏幕,其特征在于,还包括:
一接着层,位于所述可挠性基材的所述第二表面上;以及
一离型层,其中所述接着层位于所述离型层与所述可挠性基材之间。
12.一种投影屏幕的制作方法,包括:
提供一可挠性基材,其中所述可挠性基材具有相对的一第一表面与一第二表面;
形成一反射层于所述可挠性基材的所述第一表面上;以及
形成一透明涂层于所述反射层上,且所述透明涂层背向所述反射层的一表面上具有一图纹。
13.如权利要求12所述的投影屏幕的制作方法,其特征在于,形成所述反射层的方法包括:
涂布一第一胶层在所述可挠性基材上;以及
藉由一第一转印滚轮对所述第一胶层进行转印,并对所述第一胶层进行一光固化制程,以形成所述反射层。
14.如权利要求13所述的投影屏幕的制作方法,其特征在于,所述第一转印滚轮上具有多个转印微结构,以在所述第一胶层形成多个光学微结构。
15.如权利要求14所述的投影屏幕的制作方法,其特征在于,所述光学微结构为颗粒状。
16.如权利要求14所述的投影屏幕的制作方法,其特征在于,所述光学微结构为棱镜结构。
17.如权利要求16所述的投影屏幕的制作方法,其特征在于,各所述光学微结构具有一顶角,且各所述顶角的角度相同。
18.如权利要求16所述的投影屏幕的制作方法,其特征在于,各所述光学微结构具有一顶角,且至少部分所述光学微结构的所述顶角的角度不同。
19.如权利要求12所述的投影屏幕的制作方法,其特征在于,形成所述透明涂层的方法包括:
涂布一第二胶层在所述反射层上;以及
藉由一第二转印滚轮对所述第二胶层进行转印,并对所述第二胶层进行一光固化制程,以使所述第二胶层形成所述图纹。
20.如权利要求12所述的投影屏幕的制作方法,其特征在于,所述反射层的厚度大于或等于20μm。
21.如权利要求12所述的投影屏幕的制作方法,其特征在于,所述透明涂层的厚度小于或等于20μm。
22.如权利要求12所述的投影屏幕的制作方法,其特征在于,所述透明涂层背向反射层的所述表面的表面粗糙度范围落在3μm至3.5μm之间。
23.如权利要求12所述的投影屏幕的制作方法,其特征在于,还包括:
在形成所述透明涂层后,涂布一接着层于所述可挠性基材的所述第二表面上;以及
配置一离型层,其中所述接着层位于所述离型层与所述可挠性基材之间。
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