[发明专利]磁场生成设备和溅射设备有效
申请号: | 201410319170.6 | 申请日: | 2014-07-04 |
公开(公告)号: | CN104278243B | 公开(公告)日: | 2018-08-14 |
发明(设计)人: | 佐佐木纯;阿部淳博;平塚亮一 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 褚海英;陈桂香 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁场 生成 设备 溅射 | ||
1.一种磁场生成设备,其包括:
两个以上主磁极部,其用于生成主磁场;
一个以上副磁极部,其包括通过分割得到的多个第一分割磁体,并且生成用于对所生成的所述主磁场进行调节的副磁场;
背轭;以及
轭部,其包括对应于所述一个以上副磁极部而与所述多个第一分割磁体相对的一个以上第一轭,
其中:
所述两个以上主磁极部分别包括通过分割得到的多个第二分割磁体;
所述轭部包括对应于所述两个以上主磁极部而与所述多个第二分割磁体相对的两个以上第二轭;
所述背轭位于所述两个以上主磁极部和所述一个以上副磁极部的下侧;以及
所述轭部位于所述两个以上主磁极部和所述一个以上副磁极部的上侧,且所述一个以上第一轭设置在所述多个第一分割磁体的上侧,所述两个以上第二轭设置在所述多个第二分割磁体的上侧。
2.根据权利要求1所述的磁场生成设备,其进一步包括:
生成部,其是所述主磁场的生成位置,其中:
所述两个以上主磁极部包括在所述生成部侧具有N极的第一主磁极部和在所述生成部侧具有S极的第二主磁极部;
所述一个以上副磁极部包括第一副磁极部以及第二副磁极部,所述第一副磁极部在所述第一主磁极部和所述第二主磁极部之间设置在所述第二主磁极部附近且在所述生成部侧具有N极,所述第二副磁极部在所述第一主磁极部和所述第二主磁极部之间设置在所述第一主磁极部附近且在所述生成部侧具有S极;
所述一个以上第一轭设置在所述多个第一分割磁体和所述生成部之间;以及
所述两个以上第二轭设置在所述多个第二分割磁体和所述生成部之间。
3.根据权利要求2所述的磁场生成设备,其中:
所述生成部包括生成表面,所述生成表面生成磁场的一侧为正面,另一侧则为背面;
所述第一主磁极部环状地设置在所述生成表面的边缘部分的背面侧;
所述第二主磁极部线性地设置在所述生成表面的中央部分的背面侧;
所述第一副磁极部在围绕所述第二主磁极部的同时环状地设置;以及
所述第二副磁极部环状地设置在所述第一主磁极部的内侧。
4.根据权利要求1~3中的任一项所述的磁场生成设备,其进一步包括:
保持部,其用于可移动地保持所述多个第一分割磁体。
5.一种溅射设备,其包括:
真空腔;
设置在所述真空腔内的基板支持部;
与所述基板支持部相对的靶;
磁场生成部,其包括:
两个以上主磁极部,其在所述靶的正面上生成主磁场,
一个以上副磁极部,其包括通过分割得到的多个第一分割磁体,并且生成用于对所生成的所述主磁场进行调节的副磁场,背轭,以及
轭部,其包括对应于所述一个以上副磁极部而与所述多个第一分割磁体相对的一个以上第一轭;以及
电位施加部,其用于向所述靶施加负电位,
其中:
所述两个以上主磁极部分别包括通过分割得到的多个第二分割磁体;
所述轭部包括对应于所述两个以上主磁极部而与所述多个第二分割磁体相对的两个以上第二轭;
所述背轭位于所述两个以上主磁极部和所述一个以上副磁极部的下侧;以及
所述轭部位于所述两个以上主磁极部和所述一个以上副磁极部的上侧,且所述一个以上第一轭设置在所述多个第一分割磁体的上侧,所述两个以上第二轭设置在所述多个第二分割磁体的上侧。
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