[发明专利]化学机械研磨设备及其防止化学机械研磨残留的方法在审
申请号: | 201410307530.0 | 申请日: | 2014-06-30 |
公开(公告)号: | CN104128874A | 公开(公告)日: | 2014-11-05 |
发明(设计)人: | 丁弋;樊文斌 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | B24B37/005 | 分类号: | B24B37/005;B24B37/34 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 王宏婧 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化学 机械 研磨 设备 及其 防止 残留 方法 | ||
1.一种化学机械研磨设备,包括转盘、铺设于所述转盘上的研磨垫、以及设置于所述研磨垫上方的研磨头、研磨液供应管和调节器,其特征在于,还包括设置于所述调节器中的电机以及与所述电机连接的监测分析单元,所述监测分析单元根据所述电机的扭转力矩信号判断所述研磨垫的状态。
2.根据权利要求1所述的化学机械研磨设备,其特征在于,所述调节器自上而下包括调节器悬臂、与调节器悬臂连接的钻石固定盘以及固定于所述钻石固定盘上的钻石颗粒。
3.根据权利要求2所述的化学机械研磨设备,其特征在于,所述电机以及所述监测分析单元置于所述调节器悬臂内。
4.根据权利要求1所述的化学机械研磨设备,其特征在于,所述电机控制所述调节器的旋动。
5.一种防止化学机械研磨残留的方法,采用如权利要求1所述的化学机械研磨设备,该方法包括:
进行化学机械研磨,通过所述电机控制所述调节器的旋动,以修整研磨垫;
所述监测分析单元根据电机的扭转力矩信号实时判断所述研磨垫的状态。
6.根据权利要求5所述的防止化学机械研磨残留的方法,其特征在于,如果所述电机的扭转力矩信号发生突变,则判断所述研磨垫异常,停止化学机械研磨。
7.根据权利要求5所述的防止化学机械研磨残留的方法,其特征在于,如果所述电机的扭转力矩信号稳定,则判断所述研磨垫正常,继续化学机械研磨。
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