[发明专利]管道搅拌装置及等离子体化学气相淀积设备

说明书

技术领域

本发明涉及管道搅拌技术领域，特别是涉及一种管道搅拌装置及一种等离子体化学气相淀积设备。

背景技术

等离子体化学气相淀积(Plasma Chemical Vapor Deposition，简称PCVD)是一种用等离子体激活反应气体，促进在基体表面或近表面空间进行化学反应，生成固态膜的技术。等离子体化学气相淀积技术的基本原理是在高频或直流电场作用下，源气体电离形成等离子体，利用低温等离子体作为能量源，通入适量的反应气体，利用等离子体放电，使反应气体激活并实现化学气相沉积的技术。

如图1所示，图1为现有技术等离子体化学气相淀积设备的结构示意图，以应用材料(APPLIED MATERIALS)公司型号为precision5000的等离子体化学气相淀积设备为例，该等离子体化学气相淀积设备包括反应腔室10、真空泵11和尾气处理装置12，以及连通反应腔室10和真空泵11的第一管道21，连通真空泵11和尾气处理装置12的第二管道22。在该设备中，真空泵11对设备内抽真空，反应气体在反应腔室10反应后产生的副产物(包括大量粉尘)由真空泵11抽出，再经由尾气处理装置12处理后排放至大气。当使用等离子体化学气相淀积设备对氮化硅产品进行等离子体化学气相淀积时，会产生大量的粉尘，由于第一管道21和第二管道22的管径较小，且管道长度无法缩短，这些粉尘会堆积在第一管道21和第二管道22的内壁上，特别是具有直角弯管的第一管道21，粉尘易堆积在直角弯管处，经过一段时间后会使管道内径变小，甚至堵塞管道导致工艺异常或工艺中断影响产品质量，并且易延误试验的进程。另外，管道一旦堵塞，还需要更换管道，导致设备的维护成本较高。

发明内容

本发明提供了一种管道搅拌装置及一种等离子体化学气相淀积设备，用以减少粉尘在管道中堆积，进而减少堵塞管道对产品质量的影响。

本发明实施例首先提供一种管道搅拌装置，所述管道搅拌装置包括：

电机；

转轴，穿设于所述管道的接口，所述转轴的一端具有沿管道轴向设置的搅拌件；

联轴器，将所述电机的输出轴与所述转轴的另一端联接；

套接于所述转轴的密封器，所述密封器密封所述转轴和所述管道的接口之间的间隙。

本发明的管道搅拌装置可适用于粉尘易堆积的管道，管道内可以是真空的，也可以是非真空的，特别适用于等离子体化学气相淀积设备中的管道，在本发明技术方案中，通过电机的输出轴带动具有搅拌件的转轴转动，通过搅拌件的旋转可以将管道内的粉尘扬起，使得粉尘具有流动性，防止粉尘堆积进而堵塞管道，进而避免堵塞管道或压力异常引起产品异常的问题，也避免因堵塞管道影响试验进程。另外，由于采用了密封器，可防止管道接口与转轴之间漏气，因此在设备使用中就可以对设备的管道进行疏通。本发明的管道搅拌装置可以防止管道堵塞，减少管道维护次数，延长了管道的使用寿命，降低了更换管道的成本，提高了设备的利用率。本发明的技术方案采用机械电动装置，提高了疏通效率。此外，本发明的管道搅拌装置结构简单，制作成本低，操作简单，且使用安全、方便。

密封器的结构形式有多种，优选的，所述密封器包括套接于所述转轴的密封套，以及夹持所述密封套的法兰。

密封套与转轴套接，转轴可在密封套内旋转，法兰夹持于密封套，法兰和密封套形成对转轴与管道的接口之间间隙的密封。

为了更有效地防止管道外气体流入管道内，所述密封器还包括设置于所述密封套和所述转轴之间的O型密封圈、骨架型橡胶密封圈或真空转轴磁流体密封装置，以及设置于所述密封套和所述法兰之间的O型密封圈。

优选的，所述法兰为快卸法兰。

法兰的形式有多种，采用快卸法兰，提高了法兰拆装的便携性，提高了管道搅拌装置安装的便携性。

优选的，所述管道搅拌装置，还包括套设于所述联轴器的固定支架，所述电机和所述密封套固定于所述固定支架。

为了使上述管道搅拌装置形成一体，在管道搅拌装置上设置固定支架，形成密封套与电机的固定连接，并且，该固定支架还可以固定于需要进行搅拌的管道的附近位置上，进而提高管道搅拌装置安装的便利性。

优选的，所述搅拌件为弹簧或圆形钢丝刷。

搅拌件易选用可弯曲的搅拌件，例如弹簧、钢丝刷等，这些搅拌件可以在管道内沿管道轴向延伸，特别适合搅拌弯管处的粉尘，防止最易堆积粉尘的弯管处堆积粉尘，大大提高管道的使用寿命。