[发明专利]灰阶掩模板和彩膜基板及制作方法、显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种隔垫物掩模板及其制作方法、彩膜基板及其制作方法、显示装置。 

背景技术

液晶显示器的面板，包括平行设置并对盒的阵列基板和彩膜基板，两者之间设置有液晶层，为了控制液晶层厚度的稳定均一性，在两基板之间设置隔垫物。目前，高性能的薄膜晶体管液晶显示面板一般采用柱状隔垫物(PS)。 

现有的薄膜晶体管液晶显面板制作过程中，因柱状隔垫物上表面是凸形结构，类似于馒头状，在受到外力作用下时，因柱状隔垫物上表面接触面积较小，而柱状隔垫物本身有弹性，形变量比较大，同时因接触面积不断变化，柱状隔垫物硬度呈现出非线性变化，这些问题将导致液晶面板出现对外界压力变化比较敏感的不良，例如发生L0漏光和Touch Mura，严重影响画面品质。 

而柱状隔垫物上表面呈凸形结构的根本原因在于传统的柱状隔垫物的制作方法，传统方法一般为：首先在彩膜基板上涂布负性光刻胶，负性光刻胶在受到光照后将形成不可溶物质；利用掩模板对负性光刻胶进行曝光和显影，将没有受到光照的负性光刻胶溶解清除，而掩模板的曝光区下方的负性光刻胶就因为不可溶而形成柱状隔垫物，但是传统的掩模板的曝光区的光强度并不均匀，而是从中间区域向边缘区域逐渐减小，所以曝光区下方对应的负性光刻胶中间部分受到光照多，而边缘部分受到光照少，显影后边缘部分的负性光刻胶溶解较多，这样，最终形成的柱状隔垫物上表面就会呈现凸形结构。 

发明内容

(一)解决的技术问题 

针对现有技术的不足，本发明提供灰阶掩模板及其制作方法、彩膜基板及其制作方法、显示装置，使得通过该灰阶掩模板制作的柱状物在受到外力作用下时硬度呈现出线性变化，因而避免或减轻液晶面板对外界压力变化比较敏感的不良。 

(二)技术方案 

为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现： 

一种灰阶掩模板，包括透明基板和形成于所述透明基板上的遮光层，所述遮光层包括曝光区，其中： 

所述曝光区形成有光学半透膜，所述光学半透膜的透光率从所述光学半透膜的中间区域向所述光学半透膜的边缘区域逐渐下降或梯次下降。 

优选地所述光学半透膜的厚度从所述光学半透膜的中间区域向所述光学半透膜的边缘区域逐渐下降或梯次下降。 

优选地，所述光学半透膜包括多层单位光学半透膜，在离开所述透明基板的方向上，上一层单位光学半透膜形成于下一层单位光学半透膜之上，且所述上一层单位光学半透膜的面积尺寸小于所述下一层单位光学半透膜。 

优选地，所述光学半透膜包括多层单位光学半透膜，在离开所述透明基板的方向上，上一层单位光学半透膜形成于下一层单位光学半透膜之上，且所述上一层单位光学半透膜的面积尺寸大于所述下一层单位光学半透膜，除最下层单位光学半透膜外的每层单位光学半透膜分布在从所述最下层单位光学半透膜起到其自身的每一层。 

一种制造灰阶掩模板的方法，该方法包括： 

在透明基板上形成带有曝光区的遮光层； 

在所述曝光区上形成光学半透膜，且所述光学半透膜的透光率从所述光学半透膜的中间区域向所述光学半透膜的边缘区域逐渐下降或梯次下降。 

优选地，所述在所述曝光区上形成光学半透膜包括：在所述曝光区上依次形成多层单位光学半透膜，使得在离开所述透明基板的方向上，上一层单位光学半透膜形成于下一层单位光学半透膜之上，且所述上一层单位光学半透膜的面积尺寸小于所述下一层单位光学半透膜。 

优选地，所述在所述曝光区上形成光学半透膜包括：在所述曝光区上依次形成多层单位光学半透膜，使得在离开所述透明基板的方向上，上一层单位光学半透膜形成于下一层单位光学半透膜之上，且所述上一层单位光学半透膜的面积尺寸大于所述下一层单位光学半透膜，除最下层单位光学半透膜外的每层单位光学半透膜分布在从所述最下层单位光学半透膜起到其自身的每一层。 

一种制作彩膜基板的方法，该方法包括： 

提供形成有彩色滤光层的基板； 

在所述基板上涂布负性光刻胶； 

使用上述的灰阶掩模板，对所述负性光刻胶进行曝光； 

将没有受到光照的负性光刻胶清除，从而所述灰阶掩模板的曝光区下方的负性光刻胶形成柱状隔垫物。 

一种彩膜基板，其由上述的彩膜基板制作方法制成，所述彩膜基板上形成的柱状隔垫物的顶面为平面状。