[发明专利]灰阶掩模板和彩膜基板及制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种灰阶掩模板，其特征在于，包括透明基板和形成于所述透明基板上的遮光层，所述遮光层包括曝光区，其中：

所述曝光区形成有光学半透膜，所述光学半透膜的透光率从所述光学半透膜的中间区域向所述光学半透膜的边缘区域逐渐下降或梯次下降。

2.根据权利要求1所述的灰阶掩模板，其特征在于所述光学半透膜的厚度从所述光学半透膜的中间区域向所述光学半透膜的边缘区域逐渐下降或梯次下降。

3.根据权利要求2所述的灰阶掩模板，其特征在于，所述光学半透膜包括多层单位光学半透膜，在离开所述透明基板的方向上，上一层单位光学半透膜形成于下一层单位光学半透膜之上，且所述上一层单位光学半透膜的面积尺寸小于所述下一层单位光学半透膜。

4.根据权利要求2所述的灰阶掩模板，其特征在于，所述光学半透膜包括多层单位光学半透膜，在离开所述透明基板的方向上，上一层单位光学半透膜形成于下一层单位光学半透膜之上，且所述上一层单位光学半透膜的面积尺寸大于所述下一层单位光学半透膜，除最下层单位光学半透膜外的每层单位光学半透膜分布在从所述最下层单位光学半透膜起到其自身的每一层。

5.一种制造灰阶掩模板的方法，其特征在于，该方法包括：

在透明基板上形成带有曝光区的遮光层；

在所述曝光区上形成光学半透膜，且所述光学半透膜的透光率从所述光学半透膜的中间区域向所述光学半透膜的边缘区域逐渐下降或梯次下降。

6.如权利要求5所述的制造灰阶掩模板的方法，其特征在于，所述在所述曝光区上形成光学半透膜包括：在所述曝光区上依次形成多层单位光学半透膜，使得在离开所述透明基板的方向上，上一层单位光学半透膜形成于下一层单位光学半透膜之上，且所述上一层单位光学半透膜的面积尺寸小于所述下一层单位光学半透膜。

7.如权利要求5所述的制造灰阶掩模板的方法，其特征在于，所述在所述曝光区上形成光学半透膜包括：在所述曝光区上依次形成多层单位光学半透膜，使得在离开所述透明基板的方向上，上一层单位光学半透膜形成于下一层单位光学半透膜之上，且所述上一层单位光学半透膜的面积尺寸大于所述下一层单位光学半透膜，除最下层单位光学半透膜外的每层单位光学半透膜分布在从所述最下层单位光学半透膜起到其自身的每一层。

8.一种制作彩膜基板的方法，其特征在于，该方法包括：

提供形成有彩色滤光层的基板；

在所述基板上涂布负性光刻胶；

使用如权利要求1-4其中任一项的灰阶掩模板，对所述负性光刻胶进行曝光；

将没有受到光照的负性光刻胶清除，从而所述灰阶掩模板的曝光区下方的负性光刻胶形成柱状隔垫物。

9.一种彩膜基板，其特征在于，其由权利要求8所述的彩膜基板制作方法制成，所述彩膜基板上形成的柱状隔垫物的顶面为平面状。

10.一种显示装置，其特征在于，包括：对盒的阵列基板和权利要求9所述的彩膜基板，所述彩膜基板的柱状隔垫物使所述彩膜基板和所述阵列基板之间形成有空间，所述空间中设置有液晶。