[发明专利]发光装置以及电子设备

说明书

本发明提供发光装置以及电子设备。上述发光装置具备形成在基体上的第一发光元件以及第二发光元件、和覆盖上述第一发光元件以及上述第二发光元件的密封层，上述第一发光元件与上述第二发光元件的间隔、上述第一发光元件与上述第二发光元件的节距、以及上述发光元件的宽度中的至少一个为上述密封层的膜厚以下。

技术领域

本发明涉及利用例如有机EL材料等的发光材料的发光装置。

背景技术

以往已经提出一种将在基板上平面状地排列利用例如有机EL材料的发光元件的发光装置作为各种电子设备的显示装置。专利文献1公开了以用于防止外部空气、水分的侵入的密封剂来覆盖基板上的多个发光元件的结构。在专利文献1的技术中，以相对于各发光元件的间隔充分薄的膜厚形成密封剂。

专利文献1：日本特开2008－525955号公报

然而，在如专利文献1那样将密封剂形成为充分薄的膜厚的结构中，在密封剂的表面显现反映了基板上的各元件的形状的凹凸(阶梯差)，其结果，有可能降低密封剂的密封性能。在如专利文献1的技术那样，各发光元件的间隔(0.3mm左右)相对于密封剂的膜厚充分大的大型发光装置中，密封剂的表面的凹凸的影响较小，但在以较小的间隔高密度地排列例如面积为40μm²以下的微小的各发光元件的微型显示器中，密封剂的表面的凹凸的影响特别明显。考虑以上的情况，本发明目的在于减少覆盖发光元件的密封层的表面的凹凸。

发明内容

为了解决以上的技术问题，本发明的第一方式的发光装置具备形成在基体上的第一发光元件以及第二发光元件、和覆盖第一发光元件以及第二发光元件的密封层，第一发光元件与第二发光元件的间隔为密封层的膜厚以下。在以上的结构中，由于第一发光元件和第二发光元件的间隔为密封层的膜厚以下，所以与第一发光元件和第二发光元件的间隔超过密封层的膜厚的结构相比，能够减少密封层的表面的凹凸。

本发明的第二方式的发光装置具备形成在基体上的第一发光元件以及第二发光元件、和覆盖第一发光元件以及第二发光元件的密封层，第一发光元件与第二发光元件的节距为密封层的膜厚以下。在以上的结构中，由于第一发光元件与第二发光元件的节距在密封层的膜厚以下，所以与第一发光元件与第二发光元件的节距为超过密封层的膜厚的结构相比，能够减少密封层的表面的凹凸。

本发明的第三方式的发光装置具备形成在基体上的发光元件和覆盖发光元件的密封层，发光元件的宽度为密封层的膜厚以下。在以上的结构中，由于发光元件的宽度为密封层的膜厚以下，所以与发光层的宽超过密封层的膜厚的结构相比，能够减少密封层的表面的凹凸。

在第三方式的发光装置中，在基体上形成有相互对置的第一电极以及第二电极、第一电极与第二电极之间的发光功能层、以及形成在第一电极和第二电极且具有开口部的像素定义层的结构中，将开口部的内侧且在第一电极和第二电极之间夹有发光功能层的部分作为发光元件而发挥功能，发光元件的宽度为开口部的宽度。

在第一方式至第三方式的发光装置的优选例中，发光元件包括形成在绝缘层的面上且相互对置的第一电极以及第二电极、和遍及多个发光元件连续地形成且位于第一电极与第二电极之间的发光功能层，在绝缘层中的各发光元件之间的区域形成开口部，发光功能层进入至该开口部。在以上的构成中，由于在绝缘层中的各发光元件之间形成有开口部且发光功能层进入至该开口部，所以尽管是发光功能层遍及多个发光元件且连续的构成，也能够防止相互相邻的各发光元件之间的漏电电流。由此，具有能够将各发光元件高精度地控制为目标亮度这一优点。另一方面，在绝缘层形成开口部的构成中，具有在密封层的表面容易显现凹凸这一趋势。考虑以上的趋势，能够减少密封层的表面的凹凸的本发明的各方式的发光装置格外优选在绝缘层设置开口部的构成。