[发明专利]掩模版的清洗方法及装置

说明书

技术领域

本发明涉及有机电致发光显示器件制作领域，尤其涉及一种掩模版的清洗方法和装置。

背景技术

平面显示器件具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。现有的平面显示器件主要包括液晶显示器件(Liquid Crystal Display，LCD)及有机电致发光显示器件(Organic Light Emitting Display，OLED)。

有机电致发光器件由于同时具备自发光，不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制程较简单等优异之特性，被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。从使用的有机电致发光材料的分子量来看，有机电致发光器件分为小分子有机电致发光器件(OLED)和高分子电致发光器件(PLED)，由于分子量的不同，有机电致发光器件的制程也有很大的区别，OLED主要通过热蒸镀方式制备，PLED通过旋涂或者喷墨打印方式制备。

OLED通常包括：基板、置于基板上的ITO透明阳极、置于ITO透明阳极上的空穴注入层(HIL)、置于空穴注入层上的空穴传输层(HTL)、置于空穴传输层上的发光层(EML)、置于发光层上的电子传输层(ETL)、置于电子传输层上的电子注入层(EIL)以及置于电子注入层上的阴极。为了提高效率，发光层通常采用主/客体掺杂系统。

目前OLED制作的主要方式是加热蒸发镀膜,掩模版一般都是选用金属制作的掩模版,经过一段时间的蒸镀之后需要对金属掩模版进行清洗,以保证掩模版不会因材料附着而发生精度变化,传统的掩模版清洗采用湿式药液浸泡清洗，存在清洗时间长,药液纯度要求高,有材料残留的等缺点。

图1为现有的掩模版的清洗装置的结构示意图，包括药液湿式清洗槽500、药液湿式洗涤槽600及干燥槽700。200为待清洗的OLED金属掩模版。该方法首先将待清洗的OLED金属掩模版200置于装有药液的药液湿式清洗槽500中对OLED金属掩模版表面的有机材料进行清洗，然后将清洗后的OLED金属掩模版置于装有洗涤剂的药液湿式洗涤槽600中，对前一道工序中带出的药液进行漂洗，最后把漂洗后的OLED金属掩模版置于干燥槽700中进行干燥处理。该方法具有清洗时间长，药液纯度要求高，有材料残留等缺点。

发明内容

本发明的目的在于提供一种掩模版的清洗方法，克服了传统药液浸泡清洗时间长、效率低的问题，大大缩短了清洗周期，提高了清洗产能，并降低材料残留的几率。

本发明的另一目的在于提供一种掩模版的清洗装置，结构简单，操作方便，功能实用，有效提高了掩模版的清洗效率。

为实现上述目的，本发明供一种掩模版的清洗方法，包括以下步骤：

步骤1、提供待清洗掩模版，该掩模版由金属制成，其上附有有机材料膜层；

步骤2、对该待清洗的掩模版进行微波加热，使附着在掩模版的有机材料膜层破碎；

步骤3、停止微波加热,对微波加热过的掩模版喷淋药液，将破碎的有机材料膜层冲洗脱离掩模版；

步骤4、使用药液对掩模版上剩余的有机材料膜层进行清洗；

步骤5、对清洗过的掩模版进行漂洗，以洗掉残留在掩模版上的药液；

步骤6、使用微波对掩模版进行干燥处理。

所述掩模版用于OLED的蒸镀制程。

所述步骤2与步骤3在一微波干式清洗槽里进行，所述微波干式清洗槽包括槽体、设于槽体底部的微波发生装置、及设于槽体顶部的药液喷淋头，通过微波发生装置对掩模版进行微波加热，通过药液喷淋头对掩模版喷淋药液。

在所述步骤2与3中，所述待清洗掩模版倾斜放置于微波干式清洗槽内，所述有机材料膜层朝上，且所述药液喷淋头为低速药液喷淋头。

所述步骤4在一药液湿式清洗槽中进行清洗，所述药液湿式清洗槽装有药液，所述掩模版浸没于药液中。

所述步骤5在一药液湿式洗涤槽中进行漂洗，所述药液湿式洗涤槽装有洗涤液，所述掩模版浸没于洗涤液中。

所述步骤6在所述微波干式清洗槽里进行。

本发明还提供一种掩模版的清洗装置，包括一微波干式清洗槽、一药液湿式清洗槽及一药液湿式洗涤槽，所述微波干式清洗槽包括槽体、设于槽体底部的微波发生装置、及设于槽体顶部的低速药液喷淋头。

所述微波干式清洗槽、药液湿式清洗槽及药液湿式洗涤槽依次相邻放置。

所述药液湿式清洗槽中装有药液，所述药液湿式洗涤槽中装有洗涤液，所述掩模版由金属制成，用于OLED的蒸镀制程。