[发明专利]掩模版的清洗方法及装置

权利要求书

1.一种掩模版的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、提供待清洗掩模版，该掩模版由金属制成，其上附有有机材料膜层；

步骤2、对该待清洗的掩模版进行微波加热，使附着在掩模版的有机材料膜层破碎；

步骤3、停止微波加热,对微波加热过的掩模版喷淋药液，将破碎的有机材料膜层冲洗脱离掩模版；

步骤4、使用药液对掩模版上剩余的有机材料膜层进行清洗；

步骤5、对清洗过的掩模版进行漂洗，以洗掉残留在掩模版上的药液；

步骤6、使用微波对掩模版进行干燥处理；

所述步骤2与步骤3在一微波干式清洗槽里进行，所述微波干式清洗槽包括槽体、设于槽体底部的微波发生装置、及设于槽体顶部的药液喷淋头，通过微波发生装置对掩模版进行微波加热，通过药液喷淋头对掩模版喷淋药液。

2.如权利要求1所述的掩模版的清洗方法，其特征在于，所述掩模版用于OLED的蒸镀制程。

3.如权利要求1所述的掩模版的清洗方法，其特征在于，在所述步骤2与3中，所述待清洗掩模版倾斜放置于微波干式清洗槽内，所述有机材料膜层朝上，且所述药液喷淋头为低速药液喷淋头。

4.如权利要求1所述的掩模版的清洗方法，其特征在于，所述步骤4在一药液湿式清洗槽中进行清洗，所述药液湿式清洗槽装有药液，所述掩模版浸没于药液中。

5.如权利要求1所述的掩模版的清洗方法，其特征在于，所述步骤5在一药液湿式洗涤槽中进行漂洗，所述药液湿式洗涤槽装有洗涤液，所述掩模版浸没于洗涤液中。

6.如权利要求1所述的掩模版的清洗方法，其特征在于，所述步骤6在所述微波干式清洗槽里进行。