[发明专利]一种基于3D打印的滤色膜制备方法有效
申请号: | 201410237599.0 | 申请日: | 2014-05-31 |
公开(公告)号: | CN104407468B | 公开(公告)日: | 2017-02-15 |
发明(设计)人: | 郭太良;叶芸;陈恩果;徐胜;刘玉会 | 申请(专利权)人: | 福州大学 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司35100 | 代理人: | 蔡学俊 |
地址: | 350108 福建省福州市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 打印 滤色膜 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种基于3D打印的滤色膜制备方法,应用于滤色膜制备。
背景技术
滤色膜是液晶显示器实现彩色显示的核心组件,它在决定显示器面板色特性的同时,其质量的优劣也影响显示器的对比度、亮度及表面反射。其结构主要包括:玻璃基板、黑矩阵、三基色着色层、保护层和ITO透明导电电极。目前,制备彩色滤光膜的技术工艺已经相当成熟,但是由于彩色滤光膜的制备成本占到整个面板总成本的20%-30%,且当前的制备工艺存在很多缺点。
黑矩阵的主要作用是对入射光进行遮蔽,从而提高对比度和色纯度,因此要求黑矩阵具有高遮光性、低反射率、低厚度及高精密化。目前用作黑矩阵的材料主要为金属铬、金属铬/氧化铬二层铬膜及树脂炭黑。其中,金属铬的膜厚可以控制在0.1 mm左右,但是由于其反射率高达50%以上,因此并不是理想的黑矩阵材料。而金属铬/氧化铬二层铬膜被认为是理想的低反射率膜,主要是因为其反射率在5%左右且膜厚可控制在0.15 mm左右,但是两层膜的制备使其工艺流程变复杂。树脂炭黑的反射率一般在0.5%以下,但是其膜厚却在1 mm左右。另外,目前制备树脂炭黑通常采用湿法光刻技术,该工艺对污染环境、步骤繁琐,限制了量产效率的提高。
三基色着色层的制备是滤色膜制备过程中的关键技术。目前常用的制备方法包括颜料分散法、染色法、印刷法、电沉积法及喷涂法等,其中颜料分散法是主流工艺。颜料分散法和染色法都需采用光刻技术,因此技术复杂且成本较高;而印刷法和电沉积法制备得到的滤色膜的平整度较差,需用平面挤压或抛光处理使其平整度得到改善;喷涂法制备的滤色膜较难达到平整度高及像素形状均一的要求。
保护层的作用是保护三基色着色层不受污染,降低滤色膜图样的厚度变化,提高其物理与化学稳定性,因此要求保护层具有平整性好,透过率高的特点。目前,制作保护层的方法主要包括铬遮光法、组合法、电沉积法、树脂BM法和背面微影法,而这些方法都要采用光刻技术,因此工艺流程复杂且成本较高。
ITO透明导电电极要有良好的电特性、透明性和可靠度。目前制备的主要方法包括蒸镀法和溅射法。蒸镀法制备的ITO透明导电电极的附着性较差且重复性不好,而两种方法对制备条件的要求都较高。
此外,采用传统工艺制备的彩色滤光膜往往存在很多缺陷,其中微观点缺陷包括:白点、混色点、突起缺陷、遮光层图案异常和洞缺陷等,这主要是由于传统工艺的精密度不够高;宏观面缺陷主要包括异物缺陷、ITO透明电极缺陷等,这主要是由于传统工艺的过程复杂且无法达到各膜层间物理复合性好的要求。3D打印技术具有工艺步骤简单、精密度高的特点,还可使各膜层间达到很好的物理复合,因此可以作为制备彩色滤光膜的理想工艺技术。
发明内容
本发明的目的是提供一种基于3D打印的滤色膜制备方法,有助于解决目前传统工艺下彩色滤光膜制备缺陷等问题。
本发明的技术方案在于:
一种基于3D打印的滤色膜制备方法,其特征在于:按如下步骤进行:
1)编写满足黑矩阵3D打印头、蓝色着色层3D打印头、绿色着色层3D打印头和红色着色层3D打印头、保护层3D打印头、ITO透明导电电极3D打印头运动路径程序,以满足结构形成需要为准;
2)选用平板玻璃或有机塑料作为基片,在清洁处理后放入3D打印机中,利用单个或阵列式黑矩阵3D打印头打印微细图案的黑矩阵;
3)在已经打印成型的黑矩阵之间,利用蓝色着色层3D打印头、绿色着色层3D打印头和红色着色层3D打印头打印滤色膜的三基色着色层;
4)在打印成型的蓝色着色层、绿色着色层和红色着色层的间隙及表面,利用保护层3D打印头打印保护层;
5)在打印成型的保护层上,利用透明导电电极3D打印头打印透明导电电极。
其中,步骤2)所采用的3D打印形式为紫外曝光、熔融或者激光烧结三种中的一种;通过软件对阵列式3D打印头进行控制,打印出适合三基色着色层配置的黑矩阵;并控制黑矩阵的厚度为0.1 mm -2.0 mm,宽度为10 mm左右;所述黑矩阵的材料选择金属铬、金属铬/氧化铬、树脂炭黑。
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