[发明专利]一种阵列基板的布线结构

说明书

技术领域

本发明涉及一种布线结构，尤其是指一种阵列基板的布线结构。

背景技术

在目前薄膜晶体管液晶显示器(TFT LCD)的阵列制程中，最后一个制程检测及修补的目的是检测阵列线路的缺陷，再针对检测出的缺陷进行修补，参照图1所示，若检测到栅极线20或数据线30等出现断线缺陷，在修补时需要将断开的栅极线20或数据线30进行长线修复，修复线40可呈U型，跨设在栅极线20或数据线30的发生断裂的部位的两端。

采用这种绕线的方式来修复的，随着栅极线20或数据线30的长度增长，所需修复长线的长度也随之增长，修复的成功率也会随之降低，产品的良品率也下降。

发明内容

本发明提供了一种阵列基板的布线结构，能够提高阵列基板的断线修复成功率。

本发明实施例提供了一种阵列基板的布线结构，包括基板以及设于基板同侧的若干条栅极线和数据线，其中，所述布线结构还进一步包括若干根金属线，所述金属线靠近栅极线和数据线，当任一栅极线或数据线断线时，通过接入靠近的金属线，可实现相应的栅极线或数据线的断线修复。

优选地，所述金属线与栅极线或数据线之间通过两端接入线相互连接，在断线状态下，两端接入线在金属线上焊接接入点，所述接入线由栅极线或数据线的输入端和输出端接入，将接入线与金属线闭合连通。所述接入线通过将金属材料沉积在阵列上形成。这样，通过与金属线连接，使得断线的栅极线或数据线恢复连通。

优选地，所述金属线的长度等于或大于栅极线、数据线的长度，所述金属线与栅极线或数据线相互平行，所述接入线与金属线相互垂直，以使得跨接于金属线和栅极线、数据线之间的接入线距离最短，减小接入线的长度，提高断线修复的成功率。其中，所述金属线与栅极线或数据线之间的间距为20-30μm。

优选地，靠近栅极线的金属线的材料为栅极金属材料，与栅极线的材料相同；靠近数据线的材料为数据线金属材料，与数据线的材料相同，以确保断线修复后阻抗相同，使得数据传输稳定。

本发明实施例通过在阵列基板上预先设置若干条金属线，金属线靠近栅极线和数据线，当栅极线或数据线断线时，只需要在金属线与栅极线或数据线之间搭接一小段接入线，即可实现断线的修复，相对于现有的长线修复结构，大大缩短了长线的伸长长度，简化了断线修复时的布线结构，既可以避免了常规长线接线的繁琐工序，且明显提高了接线的效率和质量，提高了产品的良率。

附图说明

图1为现有的阵列基板的布线结构的示意图；

图2为本发明实施例提供的一种阵列基板的布线结构的示意图。

具体实施方式

针对现有阵列基板长线断线修复成功率低的问题，参照图2所示，本发明提供了一种阵列基板的布线结构，包括基板1以及设于基板1同侧的若干条栅极线2和数据线3，其中，所述布线结构还进一步包括若干根金属线4，所述金属线4靠近栅极线2和数据线3，当任一栅极线2或数据线3断线时，通过接入靠近的金属线4，可实现相应的栅极线2或数据线3的断线修复。

所述基板1上布设的两根栅极线2和两根数据线3确定一个像素区，所述两根栅极线2相互平行，两根数据线3亦相互平行，分别与控制IC的输入输出端连接，实现数据的传输，栅极线2用于控制TFT的导通与截至，数据线3用于控制TFT的输出电压或电流。金属线4的数量与栅极线2和数据线3相同，在本实施例中，所述金属线4为四根，分别与栅极线2和数据线3靠近，用于在栅极线2或数据线3断线时，对其进行修复。其中，金属线4与栅极线2相平行，并设于两栅极线2的内侧，其长度等会或大于栅极线2、数据线3的长度，以方便实现短距离的断线修复。所述金属线4与栅极线2或数据线3之间通过两端接入线5相互连接，在断线状态下，两端接入线5在金属线4上焊接接入点，所述接入线5由栅极线2或数据线3的输入端A和输出端B接入，将接入线5与金属线4闭合连通。这样，通过与金属线4连接，使得断线的栅极线2或数据线3恢复连通。接入线5与金属线4相垂直，以使得跨接于金属线4和栅极线2、数据线3之间的接入线距离最短，减小接入线5的长度，提高断线修复的成功率。优选地，所述金属线与栅极线或数据线之间的间距为20-30μm。在接线后，接入线5的一端与栅极线2或数据线3的输入端A和输出端B连接，另一端搭接于金属线4上，因此，在栅极线2或数据线3断线时，只需要在相应的栅极线2或数据线3的输入端A和输出端B与附近的金属线4搭接，即可实现断线修复，恢复数据传输。所述接入线5通过将金属材料沉积在阵列上形成，当然，也可以通过其他的方式形成。