[发明专利]一种用于制造用于手表的彩色组件的方法和设备

权利要求书

1.一种制造用于在手表中的组件的方法，所述方法包含在晶片上沉积第一薄膜的步骤，其中所述第一薄膜被适配成允许光反射离开所述晶片为要指示第一色彩特征；

所述方法还包含在所述晶片上制造第二色彩特征的进一步的步骤，所述进一步的步骤包含使用光刻在所述第一薄膜上界定图案，并且处理所述图案的边界内的区域，因此所述区域被适配成允许光反射离开晶片为要指示所述第二色彩特征，处理所述图案的所述边界内的所述区域的所述步骤包含以下中的至少一个：

(a)、在所述图案的所述边界内沉积金属或陶瓷材料，其中所述金属或陶瓷材料指示所述第二色彩特征；

(b)、移除所述图案的所述边界内的所述第一薄膜中的至少一些，并且随后将第二薄膜沉积在其中，其中所述第二薄膜被适配成产生第二色彩特征；

(c)、在所述图案的所述边界内的所述区域内沉积第二薄膜而无需移除所述图案的所述边界内的任何所述第一薄膜，使得所述第二薄膜要么单独地要么结合所述第一薄膜被适配成产生所述第二色彩特征。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述晶片包含不透明材料。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述晶片包含硅晶片。

4.根据权利要求2所述的方法，其中所述晶片包含硅晶片。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中在所述晶片上沉积所述第一薄膜的所述步骤是使用等离子体增强型化学气相沉积工艺和低压化学气相沉积工艺中的至少一个进行的。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述第一薄膜包含大于2的折射率。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述图案包含月亮或星星形状。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，处理所述图案的所述边界内的所述区域的所述步骤为在所述图案的所述边界内沉积金属或陶瓷材料，其中所述金属或陶瓷材料指示所述第二色彩特征时，使用磁控溅镀沉积工艺和电子束蒸发沉积工艺中的至少一者将所述金属或陶瓷材料沉积在所述图案的所述边界内。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述第二薄膜是使用等离子体增强型化学气相沉积工艺沉积的。

10.根据权利要求1所述的方法，其中处理所述图案的所述边界内的所述区域的所述步骤包含薄化所述图案的所述边界内的所述第一薄膜到适合于产生所述第二色彩特征的厚度。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述第一薄膜和所述第二薄膜的至少一者包含氮化硅材料。

12.一种用于在手表中的组件，所述组件根据权利要求1到11中任一项所述的方法来制造。