[发明专利]一种用于制造用于手表的彩色组件的方法和设备

说明书

技术领域

本发明涉及手表组件、用于制造所述手表组件的方法和设备，并且具体而言涉及彩色手表组件，例如用于手表的月相显示器中的那些组件。

背景技术

某些手表含有手表的拨号盘部分中的彩色组件，例如，以形成用于指示在任何给定时间的月相的月相显示器的部分。

理想的是此类手表组件的色彩特征为高质量和精确度的，从而改进视觉对比度并且因此改进指示器的可读性，并且提高指示器的观赏性和美观性品质。

手表组件的色彩特征可以借助形成组件的材料的天然色彩提供。举例来说，具有天然色彩特征的材料通常包含倾向于具有良好的机械特性并且是适当地持久的用作手表组件的金属、金属合金和金属氧化物。通常，金色可以由电镀的金提供，并且时针和分针上的蓝色可以由良好的温度控制下的氧化钢材料提供。利用适合于形成手表显示器组件的这些类型的材料的天然色彩的缺点在于适当的材料和可供使用的色彩的范围是有限的。

替代地，手表显示器组件的色彩特征的较宽范围可以通过为所述组件涂敷希望范围的色彩提供。然而，涂敷在手表显示器材料上的彩色图案的轮廓的质量和清晰度是不适合用于高档手表的。为了获得高档手表中的彩色组件的较高质量，金可以用作用于具有类金刚石碳薄膜涂层的手表的月相指示器的晶片，其中激光束用于移除手表显示器的所需区域中的类金刚石碳，以曝露金晶片。尽管此方法倾向于产生高质量月相显示器，但是处理成本是相对较高并且处理效率是相对较低。

发明内容

本发明试图缓解上文关于现有技术论述的问题中的至少一个。

本发明可以涉及若干广泛形式。本发明的实施例可以包含本文中描述的不同广泛形式中的一个或任何组合。

在第一广泛形式中本发明提供了制造用于在手表中的组件的一种方法，所述组件包含晶片，并且所述方法包含将第一薄膜沉积到晶片上的步骤，其中所述第一薄膜被适配成允许光反射离开晶片为要指示第一色彩特征。

优选地，所述晶片可以包含不透明材料。更优选地，所述晶片可以包含硅晶片。

优选地，在晶片上沉积第一薄膜的步骤可以包含使用等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)工艺和低压化学气相沉积(LPCVD)工艺中的至少一者。

优选地，第一薄膜可以包含氮化硅材料。还优选地，第一薄膜可以包含大于2的折射率。

优选地，本发明可以包含在晶片上制造第二色彩特征的另一步骤。所述另一步骤可以包含使用光刻在第一薄膜上界定图案，并且处理图案的边界内的区域，使得所述区域可以被适配成允许光反射离开晶片为要指示第二色彩特征。通常，所述图案可以指示月亮或星星形状。

通常，处理图案的边界内的区域的步骤可以包含图案的边界内沉积金属或陶瓷材料，由此所述金属或陶瓷材料指示第二色彩特征。优选地，这可以涉及磁控溅镀沉积或电子束蒸发沉积工艺的使用。通常，在金属或陶瓷材料沉积之前可以移除图案的边界内的第一薄膜，例如，通过HF溶液或干式蚀刻。

并且通常，处理图案的边界内的区域的步骤可以包含移除图案的边界内的第一薄膜中的至少一些，例如，通过HF溶液或干式蚀刻，并且随后将第二薄膜沉积在其中，所述第二薄膜被适当地适配成产生第二色彩特征。优选地，第二薄膜可以使用等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)工艺来沉积。优选地，第二薄膜还可以包含氮化硅材料。

并且通常，处理图案的边界内的区域的步骤可以包含在图案的边界内的区域内沉积第二薄膜而无需移除图案的边界内的任何第一薄膜，使得第二薄膜要么单独地要么结合第一薄膜可以被适配成产生第二色彩特征。优选地，第二薄膜可以使用等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)工艺来沉积。优选地，第二薄膜还可以包含氮化硅材料。

并且通常，处理图案的边界内的区域的步骤可以包含薄化图案的边界内的第一薄膜到适合于产生第二色彩特征的所需厚度。所述薄化可以例如使用HF溶液或干式蚀刻来进行。

有利的是，光刻的使用可以有助于以相对高的精确度和清晰度(即，通常在几百纳米的数量级内)界定图案的边界，使得图案的边界内的金属、陶瓷等材料、薄膜等到晶片上的沉积可以是适当地高质量和精确度的以应用于奢侈手表等的装饰物中。还有利的是，可以使用光刻的MEMS技术批量生产具有耐久性和光学精确度的组件。

在第二广泛形式中本发明提供了制造用于在手表中的组件的一种设备，所述设备被配置成用于在所述组件的晶片上沉积第一薄膜，其中所述第一薄膜被适配成允许光反射离开晶片为要指示第一色彩特征。

优选地，所述晶片可以包含不透明材料。更优选地，所述晶片可以包含硅晶片。