[发明专利]一种晶圆版图的CDSEM测量方法有效
申请号: | 201410216745.1 | 申请日: | 2014-05-21 |
公开(公告)号: | CN105097585B | 公开(公告)日: | 2018-05-04 |
发明(设计)人: | 王辉;王良 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 北京市磐华律师事务所11336 | 代理人: | 高伟,冯永贞 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 版图 cdsem 测量方法 | ||
1.一种晶圆版图的CDSEM测量方法,包括:
步骤(a)选择测量图案,并检查所述测量图案是否已经用作定位图案;
步骤(b)选择所述测量图案的定位图案,并检测所述定位图案是否为所有测量图案中的一个,以防止所述测量图案作为另一测量图案的定位图案,避免所述测量图案在CDSEM测量中被电子放射多次。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述步骤(a)中,若所述测量图案已经用作定位图案,则查找到选用所述测量图案作为定位图案的点,对所述点重新选择定位图案,选用测量图案以外的图案作为所述定位图案;
若所述测量图案没有用作定位图案,执行步骤(b)。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,在所述步骤(a)中,若所述测量图案已经用作定位图案,则发出警告。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述步骤(b)中,若所述定位图案为所有测量图案中的一个,则对所述定位图案进行重新选择,选用测量图案以外的图案作为所述定位图案。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,在所述步骤(b)中,若所述定位图案为所有测量图案中的一个,则发出警告。
6.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,若所述定位图案没有用作测量图案,则对所述定位图案进行编辑。
7.根据权利要求1或6所述的方法,其特征在于,所述方法还包括对所述测量图案进行编辑测量的步骤。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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