[发明专利]阵列基板及其制造方法、显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，包括栅线、数据线以及形成在栅线和数据线限定的像素区域内的像素电极，其特征在于，还包括与所述像素电极连接的用于测试薄膜晶体管特性的测试端子。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素电极包括设置于栅绝缘层以及有源层上的第一像素电极以及与所述第一像素电极平行设置的第二像素电极，所述测试端子与所述第一像素电极连接。

3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，包括：

在基板上的栅电极；

栅电极上方的栅绝缘层以及有源层；

栅绝缘层以及有源层上的第一像素电极，所述测试端子与第一像素电极同层形成且位于所述基板上；

形成于有源层上的源电极以及形成于第一像素电极上的漏电极；

形成于源电极、漏电极上的保护层；

形成于保护层上的第二像素电极。

4.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述测试端子位于所述像素区域与柔性电路板绑定区域之间。

5.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述像素区域与柔性电路板绑定区域之间设置有静电环，所述测试端子位于所述静电环与柔性电路板绑定区域之间。

6.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述静电环与柔性电路板绑定区域之间设置有公共电极引线，所述测试端子位于公共电极引线与柔性电路板绑定区域之间。

7.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述公共电极引线与柔性电路板绑定区域之间设置有测试走线，所述测试端子位于测试走线与柔性电路板绑定区域之间。

8.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-7任一项所述的阵列基板。

9.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括：

在基板上沉积栅金属薄膜，通过构图工艺形成栅线和栅电极的图形；

在所述基板上形成栅绝缘层以及有源层的图形；

在所述基板上同层形成第一像素电极以及与所述第一像素电极连接的用于测试薄膜晶体管特性的测试端子的图形；

在所述基板上形成源/漏电极的图形；

在所述基板上形成保护层的图形；

在所述基板上形成第二像素电极的图形。

10.如权利要求9所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，在所述基板上同层形成第一像素电极以及与所述第一像素电极连接的用于测试薄膜晶体管特性的测试端子的图形包括：

在所述基板上沉积第一像素电极材料以及测试端子材料；

在第一像素电极材料以及测试端子材料上涂敷光刻胶，利用掩膜板对所述光刻胶进行曝光、显影处理，通过刻蚀工艺得到第一像素电极以及测试端子的图形。