[发明专利]一种近红外氟硼二吡咯荧光染料及其制备方法

权利要求书

1.一种近红外氟硼二吡咯荧光染料，其特征在于，其结构通式为：

2.如权利要求1所述的近红外氟硼二吡咯荧光染料，其特征在于，X＝NH、O、S、或CH＝CH。

3.如权利要求1或2所述的近红外氟硼二吡咯荧光染料，其特征在于，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅为H、C_1-12的烷基、CH＝CH-CH＝CH、环烷基、苯基、萘基、F、Cl、Br、I、OR₆、NR₆R₇、CN、(CH＝CH₂)(C₆H₄)R₆、(CH₂)_mO(CH₂)_nH、(CH₂)_nCOOM、(CH₂)_mCOM或(CH₂)_mSO₃M。

4.如权利要求3所述的近红外氟硼二吡咯荧光染料，其特征在于，其中R₆、R₇为相同或不同的H、C_1-12直链或者支链烷基、C_1-12环烷基、(CH₂)_mO(CH₂)_nH、(CH₂)mCOOM、(CH₂)mCOM或(CH₂)mSO₃M；n、m＝0–15；M＝H、Li、Na、K、NH₄。

5.一种近红外氟硼二吡咯荧光染料，其特征在于，其结构通式为：

6.如权利要求5所述的近红外氟硼二吡咯荧光染料，其特征在于，R₃、R₄、R₅为H、C_1-12的烷基、CH＝CH-CH＝CH、环烷基、苯基、萘基、F、Cl、Br、I、OR₆、NR₆R₇、CN、(CH＝CH₂)(C₆H₄)R₆、(CH₂)_mO(CH₂)_nH、(CH₂)_nCOOM、(CH₂)_mCOM或(CH₂)_mSO₃M。

7.如权利要求6所述的近红外氟硼二吡咯荧光染料，其特征在于，其中R₆、R₇为相同或不同的H、C_1-12直链或者支链烷基、C_1-12环烷基、(CH₂)_mO(CH₂)_nH、(CH₂)mCOOM、(CH₂)mCOM或(CH₂)mSO₃M；n、m＝0–15；M＝H、Li、Na、K、NH₄。

8.如权利要求1-7所述近红外氟硼二吡咯荧光染料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)卤代异吲哚亚胺与硼酸类试剂Suzuki耦联；

(2)用酸催化缩合合成。

9.如权利要求8所述近红外氟硼二吡咯荧光染料的制备方法，其特征在于，步骤(1)中卤代异吲哚亚胺与硼酸类试剂Suzuki耦联准备了一系列醛；和/或，步骤(2)中用酸催化缩合4h。

10.如权利要求8或9所述近红外氟硼二吡咯荧光染料的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤：

(3)三乙胺处理后加入三氟化硼乙醚，室温配位；

(4)萃取，水洗，干燥，减压浓缩；

(5)经硅胶柱层析分离制得该异吲哚类近红外氟硼二吡咯荧光染料。