[发明专利]一种铜矿石的处理工艺在审

专利信息
申请号: 201410180462.6 申请日: 2014-04-30
公开(公告)号: CN105018724A 公开(公告)日: 2015-11-04
发明(设计)人: 苏建强 申请(专利权)人: 天津开发区均诚纸业有限公司
主分类号: C22B3/04 分类号: C22B3/04;C22B3/26;C22B15/00;C25C1/12
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地址: 300000 天津市滨*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 铜矿 处理 工艺
【权利要求书】:

1.一种铜矿石的处理工艺,包括复合浸出剂槽浸工序、萃取工序、电积工序,其工艺流程如下:

复合浸出剂槽浸工序:

1)将矿石粉碎到所需粒度,并加入浸出槽中;

2)根据加入的矿石量及矿物组成,计算出浸出剂的需要量及水量,配成浸出剂置于循环槽中;

3)加热浸出液,加入氧化剂,用泵将其泵入浸出槽中,加完氧化剂后停泵,浸出液停止循环,待反应24小时后,第二天同一时间重复上述操作;

4)每天定时化验测定铜浸出液的含铜浓度及浸出剂浓度,监测浸出槽中的反应是否正常,如果浸出率变化异常时,通过调整浸出剂加入量加以改善;

5)每天定时对浸出液中的铜和游离氨进行分析,以此来判断浸出反应是否正常,并计算每天铜的浸出率、浸出量,溶液中铜浸出量的计算公式为:

    溶液中铜浸出量W2=溶液中铜浓度(kg/m3)×溶液体积(m3

式中:铜浓度由分析测得

溶液体积为浸出液总体积

溶液中铜浸出率η(%)=W2/W1               (1)

W2由(1)式求得,W1由矿石品位(%)×浸出槽中矿石量(kg)

对矿石固体进行分析计算铜的浸出率,来验证液体中铜浸出率的准确性,由矿石固体计算浸出率有以下两种方法:

式一:η(%)=浸出后矿渣中铜含量(%)/浸出前矿石中铜含量(%)

式二:η(%)=(n1m1-n2m2)÷n1m1                  (2)

           式中n1——浸出前矿石中铜含量    (%)

                m1——浸出前加入浸出槽矿石总重量  (%)

                n2——浸出后矿渣中铜含量   (%)

                m2——浸出后矿渣中总重量   (%)

通过计算浸出液含铜量来计算铜的浸出率式(1),加入浸出流程中的液体量可准确测得,通过化验测得铜浓度后,用式(1)计算出铜的浸出率,用矿石中浸出前与浸出后的铜金属差式(2)来计算铜浸出率,来验证以浸出液含铜量来计算浸出率的准确性,同时通过矿物组成分析和浸出渣的分析,计算出氧硫混合矿中各种铜组合(原生硫化铜、次生硫化铜、游离氧化铜、结合氧化铜)的浸出率,从而监测和分析各种铜组分的浸出情况,浸出条件如下:

1)浸出液温度0-40℃;

2)浸出槽压力:常压-0.1Mpa;

3)浸出液体系PH>8;

4)浸出液固比:控制在1:5-1:0.5之间;

5)矿石粒度≤6mm;

6)矿石堆高:2m-10m;

7)浸出时间: 20-30天;

8)浸出方式:固定槽式连续浸出,浸出液间歇循环方式;

萃取工序:

高位储槽中的浸出液自流进入萃取、反萃箱,高位储槽与萃取箱通过增强塑料管连接,其间连有闸阀,来控制浸出液流量,浸出液与有机相在混合式搅拌混合后进入澄清室,有机相在上层,浸出液在下层,萃余液返回浸出系统循环使用,萃取条件如下:

料液平均含铜浓度4.0g/L,萃取率80%,料液处理量313L/d,12L/h;

萃取采用一级萃取、一级反萃,萃取相比1:1,反萃相比1.5-2:1;

搅拌电机2台,萃取、反萃各1台,功率为80瓦,用调速器控制转速;

萃取剂采用进口碱性铜萃取剂LIX54-100,稀释剂采用灯用煤油,萃取剂浓度10%(v/v);

负载有机相用硫酸浓度为160-190g/L的硫酸溶液(电积后电尾液)进行反萃;

萃取箱采用厚10mm的PVC硬板焊接制成;

萃取工序连续运转60天,萃取过程中,产生少量絮凝物,经打捞处理后回收有机相;

电积工序:

反萃液(电积液)从反萃箱流出后自流进入电积槽中,进液方式为上进下出,经电积后的电尾液流入电尾液储槽,然后用泵将电尾液泵入到高位槽中,自流进入反萃箱进行反萃,其中,可控硅为调压器与一组桥式连接的硅二极管串联组成,电积条件如下:

电流密度:125-150A/m2

电流效率:90%;

电积液流速9L/h;

电积液浓度:Cu2+ 40-45g/L,H2SO4 160-180 g/L;

电尾液浓度:Cu2+ 30-35g/L,H2SO4 170-190 g/L;

阳极板有效面积:100×180mm2,厚6mm,阳极板数量:4块,阳极板成分组成:Pb、Ca、Sn;

阴极板有效面积:120×190mm,始极片数量:3片;

电积槽尺寸600mm×130mm×200mm,电积槽数量为1个;

可控硅规格:200A,6V;

萃取电积连续运转60天后,得到累计产铜量。

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