[发明专利]基板蒸镀装置和蒸镀方法

说明书

技术领域

本发明涉及蒸镀技术领域，特别是涉及一种基板蒸镀装置和蒸镀方法。

背景技术

在OLED器件(全称：Organic Light-Emitting Diode，中文名：有机发光二极管)制造过程中，蒸镀是最关键的一个工艺，OLED器件需要在玻璃基板上蒸镀光电薄膜层(金属材料)和有机薄膜。

目前的蒸发源主要分点蒸发源和线蒸发源两种，由于OLED器件阴极蒸镀所需的温度较高，业界一般都会采用点蒸发源来进行蒸镀。如图1所示，在蒸镀的过程中，蒸发源1置于上部开口的壳体2内，玻璃基板3置于蒸发源的上部，蒸发源1固定不动，根据离子发射余弦定律可知，假如玻璃基板也相对不动的话，点蒸发源蒸镀后的基板薄膜中间厚、周围薄，假如玻璃基板在蒸镀的过程中同时移动的话，那么蒸镀后的薄膜的厚度则有可能出现中间薄、周边厚或者厚度分布不规则的情况。

综上，现有采用点蒸发源进行蒸镀的玻璃基板，其膜厚均一性较差，严重影响了显示效果。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是如何解决现有玻璃基板在采用点蒸发源进行蒸镀时，膜厚不均匀的问题。

(二)技术方案

为了解决上述技术问题，本发明提供的一种基板蒸镀装置，其包括：

蒸发源，用于对基板进行蒸镀；

X轴移动机构，用于实现蒸发源在X轴方向的移动；

Y轴移动机构，用于实现蒸发源在Y轴方向的移动；

Z轴移动机构，用于实现蒸发源在Z轴方向的移动。

进一步地，还包括控制器，所述控制器分别与X轴移动机构、Y轴移动机构和Z轴移动机构连接，用于控制所述蒸发源在X、Y、Z轴上移动的位置和速度。

进一步地，所述蒸发源的喷射口的开口大小可调。

进一步地，所述喷射口处设挡板，所述挡板的下端与所述喷射口的边沿可转动连接，所述挡板可绕着所述喷射口的边沿并沿着所述喷射口的半径方向翻转。

进一步地，所述挡板为沿着所述喷射口的边沿弯曲的曲面状。

进一步地，所述挡板为两块，分别设于所述喷射口相对的两侧，两块所述挡板围合成喇叭口；在所述挡板绕着所述喷射口的边沿翻转的过程中，两块所述挡板可相对滑动。

本发明还提供一种基板蒸镀方法，其包括：

对基板进行预蒸镀并测量蒸镀后膜层的厚度分布情况，根据膜层厚度分布情况划分厚度区域；

调节蒸发源和基板之间的间距；

根据所测得的膜层厚度分布情况来选择蒸发源移动轨迹，通过蒸发源的移动来调节基板的膜层厚度。

进一步地，根据所测得的膜层厚度分布情况来选择蒸发源移动轨迹，通过蒸发源的移动来调节基板的膜层厚度：如膜层在基板上的分布为中间厚、周围薄，则控制蒸发源在X轴和Y轴上的运动轨迹使其做圆周运动。

进一步地，根据所测得的膜层厚度分布情况来选择蒸发源移动轨迹，通过蒸发源的移动来调节基板的膜层厚度：如膜层在基板上的分布为中间薄、周围厚，则控制蒸发源在X轴和Y轴上的运动轨迹使其做直线运动或S状曲线运动。

进一步地，根据所测得的膜层厚度分布情况来选择蒸发源移动轨迹，通过蒸发源的移动来调节基板的膜层厚度：如膜层在基板上呈不规则分布，则控制蒸发源在X轴和Y轴上做圆周运动和直线运动相结合的运动。

进一步地，在蒸发源的移动过程中，同时调节蒸发源的喷射口的开口大小。

进一步地，如通过蒸发源的移动还不能改善基板的膜层厚度分布情况，则通过控制蒸发源在Z轴上运动来调整蒸发源和基板之间的距离

(三)有益效果

本发明提供的一种基板蒸镀装置及蒸镀方法，特别适用于点蒸发源，蒸发源由静止改为移动，并根据膜层的厚度分布情况设置蒸发源的运动轨迹，使点蒸发源在蒸镀的同时按一定轨迹运动，从而解决了膜厚不均现象。同时，由于基板和蒸发源之间的距离可调，可以通过减小该间距来减少节拍时间和提高材料的利用率。

附图说明

图1是现有点蒸镀源的蒸镀原理图；

图2是本发明蒸镀装置的分解图；

图3是本发明蒸发源的结构示意图；

图4是本发明蒸镀方法一的工作原理图；

图5是本发明蒸镀方法二的工作原理图；

图6是本发明蒸镀方法三的工作原理图。

其中，1、蒸发源；2、壳体；3、玻璃基板；10、蒸发源；20、基板；31、X轴滑块；32、X轴导轨；41、Y轴滑块；42、Y轴导轨；51、Z轴滑块；52、Z轴导轨；60、挡板。