[发明专利]避免大长宽比图形的孔洞层光学邻近修正方法

权利要求书

1.一种避免大长宽比图形的孔洞层光学邻近修正方法，包括步骤：

A.提供待修正的原始图形；

B.提供光学邻近修正的工艺模型；

C.根据所述原始图形或光学邻近修正后的图形和所述工艺模型计算孔洞的轮廓；

D.计算光学邻近修正后图形的每一条边缘的边缘位置误差；

E.判断所述边缘位置误差是否符合预定目标；

F.若所述边缘位置误差不符合所述预定目标，则对于每个图形，判断光学邻近修正后的长宽比是否大于要求以及在长度方向上的两条边缘的长度是否大于最小分段长度的两倍；

G.若光学邻近修正后的长宽比大于要求以及在长度方向上的两条边缘的长度大于所述最小分段长度的两倍，则在目标层上将所述边缘分割成多个分段；

H.移动所述边缘，重新返回上述步骤C；

I.若所述边缘位置误差已符合所述预定目标，则输出经过光学邻近修正后的图形；

其中，在上述步骤F中还包括：若所述边缘位置误差不符合所述预定目标，则对于每个图形，判断光学邻近修正后在宽度方向上的两条边缘的长度是否也大于所述最小分段长度的两倍；若是，先进入步骤G，再进入步骤H；若否，则直接进入步骤H。

2.根据权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于，对于上述步骤F的判断结果，若光学邻近修正后的长宽比没有大于要求或者在长度方向上的两条边缘的长度没有大于所述最小分段长度的两倍，则直接进入步骤H。

3.根据权利要求1至2中任一项所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述大长宽比是指所述图形的长宽比大于2.5。

4.根据权利要求1至2中任一项所述的光学邻近修正方法，其特征在于，在上述步骤G中，将每一条所述边缘分割成两个或者三个分段。