[发明专利]硅片清洗用移动装置

权利要求书

1.一种硅片清洗用移动装置，其特征在于：包括机架、安装在所述机架上且相对水平设置的导向板，所述导向板沿长度方向设有导向槽，所述导向板的侧端沿长度方向固定有齿条，所述导向板上设有承载机构，所述承载机构包括基板、安装在所述基板上的支轴以及位于所述支轴两端的滚轮，所述基板上固定有气缸，所述气缸的气缸臂固定有承载板，所述承载板的四周固定有挂钩，所述滚轮位于所述导向槽内，所述基板的下端固定有电机，所述电机的输出轴固定有齿轮，所述齿轮与所述齿条啮合连接。

2.根据权利要求1所述的硅片清洗用移动装置，其特征在于：所述基板上固定有至少一个导向杆，所述承载板上固定有至少一个立杆，所述立杆部分置入所述导向杆内。

3.根据权利要求2所述的硅片清洗用移动装置，其特征在于：所述导向杆的数量为两个，所述立杆的数量为两个，两个所述导向杆、两个所述立杆均呈对角设置。

4.根据权利要求1所述的硅片清洗用移动装置，其特征在于：所述承载机构的数量为两个。

5.根据权利要求4所述的硅片清洗用移动装置，其特征在于：所述基板的四周固定有轴承座，所述轴承座内设有轴承，所述支轴穿过所述轴承。

6.根据权利要求1所述的硅片清洗用移动装置，其特征在于：所述电机为步进电机。