[发明专利]高纯度高细度石墨粉的制备方法及应用

权利要求书

1.一种高纯度高细度石墨粉的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

a）在室温下，使用射线对石墨粉原料进行照射，所述石墨粉原料的受辐照剂量不得超过200KGy；

b）将步骤a）处理后得到的石墨粉原料进行研磨粉碎，得到高纯度高细度石墨粉。

2.根据权利要求1所述的高纯度高细度石墨粉的制备方法，其特征在于，所述射线为α射线、β射线、X射线、γ射线、电子束。

3.根据权利要求1所述的高纯度高细度石墨粉的制备方法，其特征在于，所述步骤a）中石墨粉原料的受辐照剂量为5-200 KGy。

4.根据权利要求1所述的高纯度高细度石墨粉的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤：

c）将所述步骤b）得到的石墨粉进行湿磨；

d）将经所述步骤c）湿磨后的石墨粉进行水洗、或酸洗、或碱洗、或有机溶剂洗。

5.根据权利要求4所述的高纯度高细度石墨粉的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤：e）进一步研磨粉碎，对高纯度石墨粉的粒子进行整形，得到高纯度高细度石墨粉。

6.根据权利要求5所述的高纯度高细度石墨粉的制备方法，其特征在于：步骤b）和步骤e）中所述研磨粉碎采用机械研磨粉碎方法、或等离子粉碎方法、超声粉碎方法、电弧法粉碎方法、爆炸法粉碎方法，所述机械研磨粉碎方法采用机械研磨机或气流研磨机进行粉碎。

7.根据权利要求1至6任一所述的制备方法制得的高纯度高细度石墨粉的应用，其特征在于：可用于涂料、塑料、橡胶、纤维、保温棉、电源和电池的制备。

8.一种高纯度高细度粉末的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

a）在室温下，使用射线对粉末原料进行照射，所述石墨粉原料的受辐照剂量不得超过200 KGy；

b）将步骤a）处理后得到的粉末原料用研磨机粉碎，得到高纯度高细度粉末；

所述粉末包括焦粉、炭黑、煤粉、活性炭。

9.根据权利要求8所述的高纯度高细度粉末的制备方法，其特征在于，所述射线为α射线、β射线、X射线、γ射线、电子束。

10.根据权利要求8所述的高纯度高细度粉末的制备方法，其特征在于，所述步骤a）中石墨粉原料的受辐照剂量为5-200 KGy。