[发明专利]防尘薄膜组件框架以及采用该框架的防尘薄膜组件

说明书

技术领域

本发明涉及半导体设备，印刷基板，液晶或有机EL显示器等的制造时作为防尘器使用的防尘薄膜组件框架以及使用其的防尘薄膜组件。

背景技术

LSI，超LSI等的半导体或为液晶显示器等的制造中，对半导体晶片或液晶用原板进行光照射，以制作图案，但是，此时所用的光掩模或中间光掩模（以下，简称光掩模）上有灰尘附着，此灰尘就会将光吸收，或使光弯曲，转印的图案就会变形，边沿变得模糊，基底污黑等，尺寸，品质，外观等受损。

由此，这些操作通常在无尘室中进行，但即使如此，也难以达到光掩模得经常清洁。因此，要在光掩模表面贴附作为防尘器的防尘薄膜组件后进行曝光。在该场合，异物就不会在光掩模的表面上直接附着，而仅在防尘薄膜组件上附着，此时，只要将焦点对准光掩模的图案，防尘薄膜组件上的异物就与转印无关了。

一般来说，防尘薄膜组件有，由使光良好通过的硝化纤维素，乙酸纤维素或氟树脂等构成的透明的防尘薄膜组件膜在由铝，不锈钢等构成的防尘薄膜组件框架的上端面进行贴附或接着来构成。另外，在防尘薄膜组件框架的下端，设置为了进行光掩模安装的由聚丁烯树脂，聚乙酸乙烯基树脂，丙烯酸树脂，硅酮树脂等构成的粘着层，以及设置为了保护粘着层的离型层（分离物）。

这样的防尘薄膜组件，要在暗室内等中用集光灯进行异物检查，确认是否有异物的附着。此检查不仅在防尘薄膜组件膜的表面，在防尘薄膜组件框架的内面也进行。在防尘薄膜组件框架内面附着的异物，有落在光掩模表面的可能，一般，将该异物检查在暗室内用集光灯等的照度大的光进行照射并目视进行，在有异物的场合，就会看到在防尘薄膜组件框架上的亮点。由于在防尘薄膜组件框架的表面有细微的凹凸存在，如包括微小的凹凸，可以说亮点有无数个。由此，现状是，从亮点的大小来进行推测异物的大小，将大于设定的容许值的判定为不良。

但是，在防尘薄膜组件框架内面设置粘着层的场合，虽有异物附着但落下可能小，这种可以容许的异物，例如可以为数十μm程度，但是近年来，由于担心由于曝光时的迷光而造成老化以及发生气体，所以多不设置粘着层，在这种场合下，检查极为严格，即使极小的，例如数μm大小的异物也会成为问题，被判定为不良的情况就会很多。

但是，在如此严格的检查中，被作为异物检查出物体中，往往不是附着的异物，而是防尘薄膜组件框架的铝阳极氧化皮膜的缺陷被误认的情况。在一般使用的铝合金制防尘薄膜组件框架的表面，通常进行黑色铝阳极氧化处理，在表面具有粗大的析出物（金属互化物）等的场合，该表面不能进行正常的铝阳极氧化皮膜的形成，会变成凹陷或不能很好地进行染色而成为白点。

专利文献1以及2中，记载了为了对上述加以防止，使铝合金的合金元素的杂质的量减低，从而使析出物的体积变小等。但是，在铝合金中，含有作为强化元素的各种各样的元素，将来自合金成分的缺陷（亮点）进行完全防止是极为困难的。

在专利文献3中，记载了由于铝阳极氧化皮膜的表面多孔，担心该表面会发生灰尘，所以要在防尘薄膜组件框架表面进行树脂涂布的技术，但是在该场合中，防尘薄膜组件框架表面由于进行树脂涂布以及赋与光泽，表面的缺陷（亮点）会进一步被强调。

如以上所述，至今为止，还不能得到没有被误认异物的缺陷（亮点）的表面品质优良的防尘薄膜组件框架以及防尘薄膜组件。在这样的场合，防尘薄膜组件框架内面的异物检查需要极长的时间，这样的长时间的异物检查，除了成本增加外，检查中有误认以及漏检的可能，从而可信性有问题。

【现有技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】日本专利3777987号

【专利文献2】日本专利4605305号

【专利文献3】日本特开2007-333910

发明内容

【发明的概要】

本发明，就是鉴于上述问题而完成的，本发明的目的是提供一种在防尘薄膜组件框架内侧的表面没有被误认为凹陷以及白点等的异物的亮点（缺陷），外观品质以及可信性优良的防尘薄膜组件框架以及使用该防尘薄膜组件框架的防尘薄膜组件。

本发明人，为了达成上述目的，进行了研究，得知如在构成防尘薄膜组件框架的铝合金的表面或近傍有不少的析出物存在的话，铝阳极氧化被覆膜就不能在该附近正常形成从而容易有凹陷等的形状缺陷发生，该形状缺陷就会成为被误认为异物的表面缺陷（亮点），如将具有该形状缺陷的表面或表面近傍用几乎没有析出物的高纯度的纯铝进行覆盖的话，就会完全不受由铝合金而来的析出物以及由该析出物而产生的形状缺陷的影响。

【发明内容】