[发明专利]一种纯Fe薄膜电催化剂的制备方法

权利要求书

1.一种制备纯Fe薄膜电催化剂材料的方法，其特征在于：

通过射频磁控溅射法在多晶钛基底材料上沉积纯Fe薄膜，并对纯Fe薄膜进行热处理获得纯Fe薄膜电催化剂，具体步骤包括：

步骤A：将靶材和基底材料置于真空装置中，系统抽真空，待达到一定真空度，通入溅射气体；

步骤B：利用射频磁控溅射沉积法，设定射频功率和溅射时间，最终在基底上沉积纯Fe薄膜；

步骤C：将沉积纯Fe薄膜的基底放入高真空热处理炉中，通入保护气体，升温至预定反应温度时，保温一段时间，对纯Fe薄膜进行热处理；

步骤D：热处理结束后，继续通保护气体，冷却至室温；可得纯Fe薄膜催化剂。

2.如权利要求1所述的一种制备纯Fe薄膜电催化剂材料的方法，其特征在于：

步骤A中，所述靶材为高纯铁靶、基底材料选多晶的钛片常用衬底材料；所述溅射气体为氩气，其流速10~40sccm。

3.如权利要求1所述的一种制备纯Fe薄膜电催化剂材料的方法，其特征在于：

步骤A中，所述真空装置内的背景压强在1×10^?4 Pa以下。

4.如权利要求1所述的一种制备纯Fe薄膜电催化剂材料的方法，其特征在于：

步骤B中，所述反应气体压强为0.5Pa。

5.如权利要求1所述的一种制备纯Fe薄膜电催化剂材料的方法，其特征在于：

步骤B中，所述射频功率为150~250 W，溅射时间为20~40min。

6.如权利要求1所述的一种制备纯Fe薄膜电催化剂材料的方法，其特征在于：

步骤B中，所述射频功率为150W，溅射时间为40min。

7.如权利要求1所述的一种制备纯Fe薄膜电催化剂材料的方法，其特征在于：

步骤C中，所述保护气体选氩气，升温时间选1-3h之间，保温时间选5min-2h之间，反应温度选400-900℃。