[发明专利]可降低反射视效的触控结构及其方法有效
申请号: | 201410139262.6 | 申请日: | 2014-04-08 |
公开(公告)号: | CN103995611B | 公开(公告)日: | 2017-02-01 |
发明(设计)人: | 吴锡尧;罗文凯 | 申请(专利权)人: | 业成光电(深圳)有限公司;英特盛科技股份有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041;G06F3/042 |
代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所44287 | 代理人: | 胡海国 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙华新*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 降低 反射 结构 及其 方法 | ||
【技术领域】
本发明涉及一种触控感应结构及其方法,尤其涉及一种可降低SITO架桥反射视效的触控感应结构及其方法。
【背景技术】
随着半导体与电路设计的技术进步,触控面板逐渐成为最主要的输入界面,被广泛应用在各种电子产品中,例如手机、个人数字助理(PDA)或掌上型个人计算机等,使用上仅需以手指轻压触控面板即可阅读信息或输入信息,可取代传统电子装置上的按键和键盘,为人类带来生活上的便利性。
于触控面板结构持续简化以利于模块整合加速的需求下,触控产业走向单层触控结构与内嵌式(In-cell)触控结构。传统的单层触控面板中,请同时参阅图1及图2,图1为现有技术的结构示意图,图2为图1沿B-B’剖线的剖视放大图。使用的触控感测组件可包含复数条排列成行的行感测电极30以及复数条排列成列的列感测电极32,在这些排列成行的行感测电极30与排列成列的列感测电极32的交错处设置一绝缘块34,以避免排列成行的行感测电极30与排列成列的列感测电极32之间发生短路。在排列成行的列感测电极可由复数个互相连接的导电单元组成,而排列成列的列感测电极则由复数个互相分开的导电单元组成,这些互相分开的导电单元再藉由横跨在绝缘块34上的导电架桥36的结构进行电性连接。
其中,导电架桥36的材料主要还是使用氧化铟锡(ITO)、金属或其他替代的可导电材料。由于ITO的透明度佳,但导电性较差,容易造成电性连接作用失效或不良,进而发生感测电极断路(open)或阻值异常,或者因感测电极的抗静电能力变差,造成触控面板的触控功能失效或不良等问题。金属材料则透明度差、易反光,但导电性较佳,也因为透明度差容易反光,故易于被人眼发现的缺点,使得金属材料应用于触控面板结构的接受度仍无法普及。因此,如何改善架桥反光效应以及提高触控灵敏度是亟待解决的问题。
有鉴于此,本发明遂针对上述现有技术的缺失,提出一种可降低反射视效的触控感应结构及其制作方法,以有效克服上述之该等问题。
【发明内容】
本发明的主要目的在于提供一种可降低反射视效的触控感应结构及其制作方法,其利用金属架桥导线的低阻抗优点来增加触控灵敏度,并透过新颖的架桥结构来降低反射视效的问题。
本发明的次要目的在于提供一种可降低反射视效的触控感应结构及其制作方法,其适用于各种尺寸的触控感应结构,可增加产业应用性。
本发明的次要目的在于提供一种可降低反射视效的触控感应结构及其制作方法,其可视需求调整喷印溶液固含量来调整每层结构厚度,使制程更具弹性。
为达以上的目的,本发明提供一种可降低反射视效的触控感应结构,包括一透明基板,其表面设有复数个第一轴向感应组件、复数个导电架桥单元及复数个第二轴向感应组件,此些第一轴向感应组件利用此些导电架桥单元跨接于此些第二轴向感应组件形成纵横交错的感应区。每一导电架桥单元包含至少一绝缘反射层、二透明绝缘层及一金属导电层;绝缘反射层设于每一第一轴向感应组件与每一第二轴向感应组件的交错位置上,二透明绝缘层分别设于绝缘反射层的两侧,金属导电层设于绝缘反射层上,以电性连接此些第一轴向感应组件。
该绝缘反射层可为复数层绝缘反射层,当该绝缘反射层为复数层结构时,以不同折射率匹配堆栈而成,以降低金属反光的情况。
该二透明绝缘层以喷印方式形成于该第一轴向感应组件与该第二轴向感应组件的交错位置上,且该二透明绝缘层的厚度介于0.5微米~5微米。
该绝缘反射层以喷印方式形成于该二透明绝缘层之间,且该绝缘反射层的厚度介于0.5微米~5微米。
该金属导电层以喷印方式形成于该绝缘反射层上,且该金属导电层的厚度介于0.5微米~5微米。
该二透明绝缘层的材质折射率范围为1.3~2.0。
该二透明绝缘层的材质折射率范围为1.62~2。
本发明提供另一种可降低反射视效的触控感应的制作方法,包括下列步骤:形成纵横交错的复数个第一轴向感应组件及复数个第二轴向感应组件的感应区于一透明基板上;喷印二透明绝缘层形成于每一第一轴向感应组件与每一第二轴向感应线组件的交错位置上;喷印至少一绝缘反射层形成于二透明绝缘层之间,且位于第一轴向感应组件与第二轴向感应组件的交错位置上;及喷印一金属导电层形成于绝缘反射层上。
该二透明绝缘层、该绝缘反射层及该金属导电层的厚度介于0.5微米~5微米。
该二透明绝缘层的材质折射率范围为1.3~2.0。
该二透明绝缘层的材质折射率范围为1.62~2。
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