[发明专利]可降低反射视效的触控结构及其方法

权利要求书

1.一种可降低反射视效的触控感应结构，其特征是，包括：

一透明基板，其表面设有复数个第一轴向感应组件、复数个导电架桥单元及复数个第二轴向感应组件，该些第一轴向感应组件利用该些导电架桥单元跨接于该些第二轴向感应组件形成纵横交错的感应区，每一该导电架桥单元包含：

至少一绝缘反射层，设于每一该第一轴向感应组件与每一该第二轴向感应组件的交错位置上；

二透明绝缘层，分别设于该绝缘反射层的两侧；及

一金属导电层，设于该绝缘反射层上，以电性连接该些第一轴向感应组件。

2.如权利要求1所述的可降低反射视效的触控感应结构，其特征是：该绝缘反射层可为复数层绝缘反射层，当该绝缘反射层为复数层结构时，以不同折射率匹配堆栈而成，以降低金属反光的情况。

3.如权利要求1所述的可降低反射视效的触控感应结构，其特征是：该二透明绝缘层以喷印方式形成于该第一轴向感应组件与该第二轴向感应组件的交错位置上，且该二透明绝缘层的厚度介于0.5微米～5微米。

4.如权利要求1所述的可降低反射视效的触控感应结构，其特征是：该绝缘反射层以喷印方式形成于该二透明绝缘层之间，且该绝缘反射层的厚度介于0.5微米～5微米。

5.如权利要求1所述的可降低反射视效的触控感应结构，其特征是：该金属导电层以喷印方式形成于该绝缘反射层上，且该金属导电层的厚度介于0.5微米～5微米。

6.如权利要求1所述的可降低反射视效的触控感应结构，其特征是：该二透明绝缘层的材质折射率范围为1.3～2.0。

7.如权利要求1所述的可降低反射视效的触控感应结构，其特征是：该二透明绝缘层的材质折射率范围为1.62～2。

8.一种可降低反射视效的触控感应的制作方法，其特征是，包括下列步骤：

形成纵横交错的复数个第一轴向感应组件及复数个第二轴向感应组件的感应区于一透明基板上；

喷印二透明绝缘层形成于每一该第一轴向感应组件与每一该第二轴向感应线组件的交错位置上；

喷印至少一绝缘反射层形成于该二透明绝缘层之间，且位于该第一轴向感应组件与该第二轴向感应组件的交错位置上；及

喷印一金属导电层形成于该绝缘反射层上。

9.如权利要求8所述的可降低反射视效的触控感应的制作方法，其特征是：该二透明绝缘层、该绝缘反射层及该金属导电层的厚度介于0.5微米～5微米。

10.如权利要求8所述的可降低反射视效的触控感应的制作方法，其特征是：该二透明绝缘层的材质折射率范围为1.3～2.0。

11.如权利要求8所述的可降低反射视效的触控感应的制作方法，其特征是：该二透明绝缘层的材质折射率范围为1.62～2。

12.一种可降低反射视效的触控感应的制作方法，其特征是，包括下列步骤：

形成纵横交错的复数个第一轴向感应组件及复数个第二轴向感应组件的感应区于一透明基板上；

喷印至少一绝缘反射层形成于每一该第一轴向感应组件与每一该第二轴向感应组件的交错位置上；

喷印二透明绝缘层分别形成于该绝缘反射层两侧，且位于该每一该第一轴向感应组件与每一该第二轴向感应组件的交错位置上；及

喷印一金属导电层形成于该绝缘反射层上。

13.如权利要求12所述的可降低反射视效的触控感应的制作方法，其特征是：该二透明绝缘层、该绝缘反射层及该金属导电层的厚度介于0.5微米～5微米。

14.如权利要求12所述的可降低反射视效的触控感应的制作方法，其特征是：该二透明绝缘层的材质折射率范围为1.3～2.0。

15.如权利要求12所述的可降低反射视效的触控感应的制作方法，其特征是：该二透明绝缘层的材质折射率范围为1.62～2。