[发明专利]一种柔性导电膜图形化制造方法在审
| 申请号: | 201410124707.3 | 申请日: | 2014-03-31 |
| 公开(公告)号: | CN104375382A | 公开(公告)日: | 2015-02-25 |
| 发明(设计)人: | 曹河文;钟明贤;李永岗;李靖;曹晨 | 申请(专利权)人: | 中能柔性光电(滁州)有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16;G03F7/20;G03F7/32;G03F7/40;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京驰纳智财知识产权代理事务所(普通合伙) 11367 | 代理人: | 谢亮;汤才祥 |
| 地址: | 239000*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 柔性 导电 图形 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及柔性显示技术领域,具体而言,涉及一种柔性导电膜图形化制造方法。
背景技术
随着信息技术的飞速发展,显示技术在市场的重要地位越来越突出。随着传统的电视、电脑、便携式终端的显示领域日臻成熟。目前市场上应用的液晶显示器是以玻璃为基材制作而成。是在玻璃基板上先制作ITO(氧化铟锡)图形,再经过定向层印刷及定向处理、框胶印刷、喷粉、成盒、玻璃切割、灌注液晶、封口、偏光片贴附、检验等过程完成液晶显示器的制作。玻璃基板的液晶显示器制作工艺和技术已经比较成熟,但是由于采用玻璃基板,制成的成品无法弯曲,不易实现轻薄便携的要求,而且在受到冲击或撞击时容易破碎。
ITO导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上,利用溅射、蒸发等多种方法镀上一层氧化铟锡(ITO)膜加工制作而成的。液晶显示器专用ITO导电玻璃还要在镀ITO层之前,镀上一层二氧化硅阻挡层,以防止基片玻璃上的钠离子向盒内液晶里扩散。现有技术中高档液晶显示器专用ITO玻璃在溅镀ITO层之前基片玻璃还要进行抛光处理,以得到均匀的显示控制,液晶显示器专用ITO玻璃基板一般属超浮法玻璃,所有的镀膜面为玻璃的浮法锡面,因此,最终的液晶显示器都会沿浮法方向规律地出现不平整波纹情况。
而目前柔性显示器的图形化方法采用柔性基板贴附感光毛细软片的方式,不易提高显示分辨率;增加了柔性显示器生产工艺复杂性,降低生产效率,增加生产成本。
例如申请号为200810172655.1的中国发明专利,其公开了一种超薄柔性液晶显示器及其制造方法,所述柔性液晶显示器包括:彼此相对设置的第1基板和第2基板,所述第1基板和第2基板通过环氧树脂粘结胶贴合在一起;设置在第1基板和第2基板的相对表面上刻有所需的第1电极和第2电极,所述第1电极和第2电极涂覆有定向膜;在所述第1基板和第2基板之间还设置有用于控制两基板的间隔的间隔球,本发明的液晶显示器具有厚度薄、可弯曲、耐压、不易碎、防震等优点,但是该制造方法较为复杂;另外,本发明在使用绒布对上下电极的定向膜进行摩擦,不易提高显示分辨率,增加了柔性显示器生产工艺复杂性。
又例如申请号为200910091255.2的中国发明专利,其公开了一种微结构薄膜图形和TFT-LCD阵列基板制造方法。微结构薄膜图形制造方法包括,在基板上形成一层薄膜;采用喷墨打印装置以设定的刻蚀图形在所述薄膜上喷射或滴下刻蚀剂;所述刻蚀剂对所述薄膜进行腐蚀;清洗所述刻蚀剂,在所述基板上形成薄膜图形。本发明不需要昂贵的设备投资,减少了交叉污染风险。但是,所选的材料为悬浮体胶质,最终的产品都会沿浮法方向规律地出现不平整波纹情况,另外制造出产品比较厚,在受到冲击或撞击时容易破碎。
发明内容
为了解决现有技术存在的上述技术缺陷,本发明的目的在于提供一种柔性导电膜图形化制造方法,选用导电薄膜即PI或PET等材料作为柔性衬底,价格低廉,质量轻便,柔韧性好,易弯曲;该方法中采用滚涂的方式在导电薄膜上滚涂一层光刻胶,光刻胶具有厚度薄、粘附力强的特点,大大提高了光刻分辨率,降低了柔性显示器生产工艺复杂性,提高了生产效率,降低了生产成本。
按照本发明的柔性导电膜图形化制造方法,包括清洗、曝光、显影、蚀刻和脱膜工序,具体步骤如下:
第一步,选取一透明导电薄膜,将其贴附在一刚性基板上形成复合基板;
第二步,对上述复合基板进行清洗;
第三步,在清洗过后的复合基板表面涂布一层光刻胶;
第四步,对涂有光刻胶层的复合基板进行预烘;
第五步,将上述预烘完成后的复合板送入曝光机中进行图形化曝光处理;
第六步,对上述曝光后的复合板进行显影、清洗处理;
第七步,对上述的复合板进行蚀刻、脱膜。
优选的是,在第三步骤中通过传动轴带动刚性基板移动。
在上述任一方案中优选的是,在第三步骤中刚性基本移动的过程中通过涂布轮与挤压轮相互挤压对复合板进行滚涂光刻胶。
在上述任一方案中优选的是,所述复合板涂布光刻胶的过程中涂布轮和挤压轮只是转动,并不发生移动。
在上述任一方案中优选的是,第三步骤中涂布方式为滚涂。
在上述任一方案中优选的是,所述刚性基板为玻璃或刚性塑料或刚性金属材料。
在上述任一方案中优选的是,所述光刻胶的粘度为20-60CP。
在上述任一方案中优选的是,所述步骤二中的复合基板的清洗环境为在0.5%的NaOH溶液中清洗2分钟,然后再放入12-18MΩ的去离子水中清洗5分钟。
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