[发明专利]玻璃基板的制造方法及显示器用玻璃基板的制造方法

说明书

所述实施形态中是使用实施形态及图4中所说明的研磨装置40，利用安装在旋转轴35上的磁力体36a、36b之间所保持的含有磁性体的研磨浆料37而进行玻璃基板G的端面33的镜面研磨加工，也可通过另一形态，用于使磁性体研磨粒和玻璃基板的端面接触而进行研磨的玻璃的清洗。图8表示另一形态的研磨装置180。含有磁性体的研磨浆料187从供给部184被供给到具有没有图示的槽的旋转轮182的槽中，利用设置在旋转轮182上的磁力体185来保持含有磁性体的研磨浆料187并使之移动。含有磁性体的研磨浆料187随着旋转而接触玻璃板的端面，并被回收部186回收。另外，图4(b)表示包含空出间隙(磁场形成部)而配置旋转轮36的两个磁力体36a、36b，且在此磁场形成部保持含有磁性体的研磨浆料37的态样。但是，也可不使两个磁力体36a、36b空出间隙而紧密配置。在不使两个磁力体36a、36b空出间隙而紧密配置的情况下，研磨浆料37因旋转轮36所形成的磁场而被保持在旋转轮36的外周面上。 

在所述实施形态中，参照图6及图7对逐一清洗玻璃基板G的单片清洗方式进行了说明。但是，在本发明的清洗工序T5中，也可采用同时清洗多块玻璃基板G的批次清洗系统。 

图9是概念地表示同时清洗多块玻璃基板G的批次清洗系统中的多个液槽700中的一个的剖面图。批次清洗系统具备多个图9所示的液槽700，并且具备将容纳多块玻璃基板G的卡匣800进行搬运的搬运机构。各液槽700根据需要而具备在将玻璃基板G浸渍于液体L中的状态下通过超声波对其进行清洗的超声波清洗机构、及调节液体L的温度的温度调节机构。另外，批次清洗系统具备向各液槽700中供给液体L的储罐。 

容纳多块玻璃基板G的卡匣800被搬运设备所搬运，并被依序浸渍于液槽700中所储存的酸性化学药液、纯水、超纯水等液体L中。各液槽700中所储存的酸性化学药液是向用水稀释玻璃基板G用的清洗剂而成的稀释液中添加选自草酸、酒石酸及柠檬酸等多元有机酸中的1种以上的酸性成分而制作。通过使含有有机酸的酸性化学药液的pH值降低到2。0以下、优选1。6以下，使玻璃基板G的表面的ζ电位成为正电位，而使玻璃基板G的端面及主表面所附着的磁性体容易离开玻璃基板G。此外，通过酸性化学药液成分的螯合效果，而防止磁性体再附着在玻璃基板G上。通过发挥出酸性化学药液的这些功能，可有效地清洗玻璃基板G所附着的磁性体。 

另外，在利用酸性化学药液进行清洗后，也可加入利用碱性清洗液的清洗工序。作为碱性清洗液，例如可使用氢氧化钾(KOH)的溶液。 

[产业上的利用可能性] 

作为通过本发明而制造的玻璃基板，并不限于显示器用途，可适宜地用于显示器用 

玻璃基板的制造方法及显示器用玻璃基板的制造方法 

技术领域

本发明涉及一种在玻璃基板的端面处理方面具有特征的显示器用玻璃基板的制造方法。 

背景技术

液晶显示器等的显示器用面板及显示器用玻璃基板的制造工序包括对切断玻璃基板而形成的端面进行倒角的工序。对于玻璃基板的端面，利用金刚石砂轮进行研削，而除去因切断而产生的裂痕及锐边。例如，利用金刚石砂轮以剖面成为R形的方式调整形状。其后，玻璃基板的端面是通过使用例如包含发泡树脂的具有柔软性的研磨轮的研磨加工而进行研磨。 

另外，作为研磨加工技术，已知有如专利文献1所记载的将含有磁性体的研磨浆料用于玻璃基板端面的研磨加工的技术。另外，已知有如专利文献2、3所记载的为了进行表面的镜面加工而使用含有磁性体的研磨浆料的技术。 

另外，对于经研磨加工的玻璃基板，需要通过清洗玻璃基板的表背面(主表面)及端面，而将研磨加工时所产生的玻璃粉及所附着的研磨材料、研磨颗粒从玻璃基板上去除。 

[现有技术文献] 

[专利文献] 

[专利文献1]国际公开第2012/067587号 

[专利文献2]日本专利特开2011-83827号公报 

[专利文献3]日本专利特开2000-233359号公报 

发明内容

[发明要解决的问题] 

近年来，随着显示面板向高精细化、高分辨率化方向发展，对于驱动面板侧要求TFT线宽的细线化，另外，对于彩色滤光片面板侧更进一步要求黑矩阵的细线化。为了应对 这种对玻璃基板的要求，对于玻璃基板的表面要求更高的洁净度。 

因此，本发明提供一种玻璃基板的制造方法，其使用清洗因研磨加工而附着在玻璃基板端面的异物的技术。 

[解决问题的技术手段]