[发明专利]对准图形及晶圆有效
| 申请号： | 201410110062.8 | 申请日： | 2014-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN103872022A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 吴佳宏 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 对准 图形 | ||
1.一种对准图形，其特征在于，用于在测量机台上对准晶圆，所述晶圆包括多个阵列的投影曝光区域，相邻的所述投影曝光区域通过切割道相隔离，所述对准图形位于所述投影曝光区域边侧的所述切割道内。
2.如权利要求1所述的对准图形，其特征在于，所述对准图形至少包括一条第一向线和一第二向线，所述第一向线在第一方向延伸，所述第二向线在第二方向延伸，所述第一方向和第二方向相垂直。
3.如权利要求2所述的对准图形，其特征在于，所述第一向线和第二向线单独排列，互不交叉。
4.如权利要求2所述的对准图形，其特征在于，多个所述第一向线组成一排列组，所述对准图形包括至少一组所述排列组。
5.如权利要求4所述的对准图形，其特征在于，每个排列组包括2-5个所述第一向线。
6.如权利要求4所述的对准图形，其特征在于，所述对准图形包括两条以上所述第二向线，每相邻两条的所述第二向线之间排列至少一组所述排列组。
7.如权利要求6所述的对准图形，其特征在于，每相邻两条的所述第二向线之间排列2-4组所述排列组。
8.如权利要求2所述的对准图形，其特征在于，所述对准图形还包括一对准框，所述第一向线和第二向线位于所述对准框的范围内。
9.如权利要求2所述的对准图形，其特征在于，所述对准框与所述第一向线和第二向线位于相邻的膜层。
10.如权利要求2所述的对准图形，其特征在于，所述第一方向为所述晶圆的纵向，所述第二方向为所述晶圆的横向；或，所述第一方向为所述晶圆的横向，所述第二方向为所述晶圆的纵向。
11.如权利要求1所述的对准图形，其特征在于，所述对准图形为方形，所述对准图形的边长为40μm～250μm。
12.一种晶圆，其特征在于，包括如权利要求1-11中任意一项所述的对准图形。
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