[发明专利]一种挺柱及其制备方法有效
| 申请号: | 201410103297.4 | 申请日: | 2014-03-19 |
| 公开(公告)号: | CN103938167A | 公开(公告)日: | 2014-07-23 |
| 发明(设计)人: | 辛延君;王慧芹;程祥军;王洋;杨玉霞 | 申请(专利权)人: | 潍柴动力股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/06;C23C14/02;C23C14/58;C23F17/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 赵青朵 |
| 地址: | 261205 山东省潍坊*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及金属材料技术领域,尤其涉及一种挺柱及其制备方法。
背景技术
气门挺柱是汽车发动机配气机构的关键部件,在发动机运行过程中与凸轮轴直接接触。随着排气刹车的需求,为了使发动机可靠的工作,发动机的排气门弹簧力比不使用排气刹车的状态增加近一倍。此外随着功率的增加,挺柱承受的力也越来越大,导致挺柱易出现严重的磨损,从而影响发动机的可靠性。
目前普遍采用表面化学镀技术、表面离子渗氮以及焊接硬质合金等技术对材料的表面进行改性。但是采用传统的普通表面强化工艺如表面镀铬,厚度较薄,由于镀层与基体是两种金属,没有过渡层,采用传统的工艺往往造成镀层的结合力不高,很容易脱落且沉积薄膜速度低;而采用表层渗氮技术,由于装炉方式的不合理及气压调节不当等,渗氮处理期间温度不均匀、炉内气流不合理等,因此采用表面渗氮工艺得到的材料的硬度和渗层不均匀。另外由于合金元素在晶界偏聚及氮原子的扩散,在模具渗氮后表层易出现网状及波纹状、针状氮化物及厚的白色脆性层,上述组织缺陷将会导致模具韧性降低、脆性增加、耐冲击性能减弱、疲劳剥落、耐磨性降低,大大降低模具的使用寿命。
磁控溅射技术是一种新型的表面处理技术,其原理是:电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片,氩离子在电场作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子或分子沉积在基片上成膜。磁控溅射技术具有成膜速率高、基片温度低、膜的粘附性好,可实现大规模镀膜,因此磁控溅射技术广泛应用于材料的表面改性上。
发明内容
本发明解决的技术问题在于提供一种挺柱及其制备方法,本申请制备的挺柱的表面设置有复合层,使挺柱具有较高的硬度、耐磨性与抗接触疲劳性能。
有鉴于此,本申请提供了一种挺柱的制备方法,包括以下步骤:
a)将挺柱基体置于磁控溅射设备中,抽真空后对所述挺柱基体进行预热;
b)将步骤a)得到的挺柱进行活化;
c)在氮气氛围下,采用TiC靶与SiC靶对步骤b)得到的挺柱进行溅射;
d)将步骤c)得到的挺柱进行退火处理。
优选的,步骤b)具体为:
在所述磁控溅射设备中通入氩气,磁控溅射设备中的真空室内压强为0.1Pa~10Pa,射频电流为100A~200A时,利用氩气等离子体对步骤a)得到的挺柱的表面进行轰击活化。
优选的,步骤c)中所述溅射的过程中,所述磁控溅射设备的工作压强为0.1Pa~10Pa,靶心距为60mm~100mm。
优选的,所述TiC靶的磁控溅射钯的功率为500W~1000W,SiC靶的磁控溅射靶的功率为300W~500W。
优选的,所述退火处理的温度为200℃~1200℃,所述退火处理的时间为1h~2h。
优选的,所述预热的温度为300℃~500℃。
优选的,步骤a)中抽真空后所述磁控溅射设备的真空度为2×10-3Pa~5×10-3Pa。
本申请提供了一种上述方案所制备的挺柱,所述挺柱的表面设置有TiSiCN复合层。
优选的,所述TiSiCN复合层中Si的含量为0.2wt%~10wt%,C的含量为0.2wt%~10wt%,Ti的含量为0.1wt%~5wt%,N的含量为0.5wt%~20wt%。
优选的,所述TiSiCN复合层的厚度为20μm~50μm。
本申请提供了一种挺柱的制备方法。在制备挺柱的过程中,本申请首先将挺柱基体置于磁控溅射设备中,将其进行预热,以有利于挺柱表面的活化;再将预热后的挺柱进行活化,为磁控溅射作准备;然后在氮气的氛围下将活化后的挺柱采用TiC靶与SiC靶对挺柱进行双靶溅射,从而得到TiSiCN复合层,最后将挺柱进行退火处理,使复合层与挺柱能够实现有效结合。
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