[发明专利]基板边缘光刻胶的去除装置

说明书

技术领域

本发明涉及光刻胶去除设备技术领域，特别是涉及一种基板边缘光刻胶的去除装置。

背景技术

在平板显示装置中，薄膜晶体管液晶显示器（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，简称TFT-LCD）具有体积小、功耗低、制造成本相对较低和低辐射等特点，在当前的平板显示器市场占据了主导地位。

在TFT-LCD的制作过程中，阵列工艺（Array）主要由三大工序组成，分别为沉积（Deposition）工序，掩膜（Mask）工序和刻蚀（Etch）工序。在掩膜工序中，在已经进行过沉积工序的基板上均匀地涂覆一层光阻剂（Photo Resist，又称光刻胶），透过掩膜板经过曝光机曝光形成薄膜晶体管图案（TFT-pattern），最后经过刻蚀工序将无光刻胶保护的沉积层刻蚀出需要的薄膜晶体管图案。而在掩膜工序的涂覆光刻胶的过程中，目前大体上的涂覆方式分为两种：一种是采用涂覆狭缝进行预涂覆，然后通过旋转（Spin）单元高速旋转形成需要的光刻胶厚度，另外一种则是采用涂覆狭缝直接一次涂覆出需要的光刻胶厚度。在旋涂过程中，由于旋转导致基板边缘部分不需要涂覆光刻胶的地方也被涂覆上，所以需要进行基板边缘光刻胶的去除操作。

基板边缘光刻胶的去除操作采用专门的装置，如图1所示，图1为现有的基板边缘光刻胶的去除装置的结构示意图，包括喷洗装置1，喷洗装置1上设置有气体喷嘴2和液体喷嘴3，其中气体喷嘴2和液体喷嘴3均采用针形喷嘴（Nozzle）。在喷洗过程中，液体喷嘴3喷出光刻胶溶解剂将基板10的边缘光刻胶进行溶解，气体喷嘴喷出气体将基板10边缘溶解有光刻胶的光刻胶溶解剂吹到基板外侧。但是在基板边缘光刻胶的去除过程中，针形喷嘴的针孔过细，进异物后容易堵塞，遇外力时也容易变形，气体喷嘴堵塞或变形后不能及时将光刻胶溶解剂吹到基板外，而液体喷嘴堵塞或变形后使得光刻胶溶解剂喷射时受阻力过大，更易出现喷溅现象。并且，当光刻胶溶解剂溅射到基板内部不需要去除光刻胶的位置后，该位置的光刻胶被溶解，在后续刻蚀工序中该位置的膜层被刻蚀掉，进而在基板上形成不良点，造成面板的不良。

发明内容

本发明提供了一种基板边缘光刻胶的去除装置，用以有效防止喷嘴堵塞现象的发生，进而减少基板上的不良点。

本发明实施例提供一种基板边缘光刻胶的去除装置，包括喷洗装置，所述喷洗装置具有喷射光刻胶溶解剂的液体喷嘴和喷射气体的气体喷嘴，所述气体喷嘴喷出的气体将落于基板边缘的光刻胶溶解剂吹向基板外侧，所述气体喷嘴和所述液体喷嘴分别为狭缝状气体喷嘴和狭缝状液体喷嘴；所述狭缝状气体喷嘴喷出的气体和基板表面形成第一狭缝区，所述狭缝状液体喷嘴喷出的液体和基板表面形成第二狭缝区，所述第一狭缝区和所述第二狭缝区不相重叠。

在本发明技术方案中，由于采用狭缝状气体喷嘴或狭缝状液体喷嘴，相对于现有的针形喷嘴来说不易堵塞，更易于气体或液体流畅喷出，不会导致光刻胶溶解剂因针形喷嘴堵塞或变形而发生溅射，避免了基板内部溅射光刻胶溶解剂而导致的基板不良现象的发生。另外，本发明采用狭缝状气体喷嘴喷出气体，替代原有针形气体喷嘴，能形成气帘保护，避免了光刻胶溶解剂溅射到基板内部，进一步减少了基板上的不良点。狭缝状气体喷嘴喷出的气体为惰性气体，例如氮气。第一狭缝区和第二狭缝区不相重叠，能够保证未落到基板的光刻胶溶解剂不被气体吹到基板外侧，保证光刻胶溶解剂接触基板边缘光刻胶后才被气体吹到基板外，充分利用了狭缝状液体喷嘴喷出的光刻胶溶解剂。

优选的，所述狭缝状气体喷嘴的狭缝宽度为0.02～0.10毫米，所述狭缝状液体喷嘴的狭缝宽度为0.02～0.10毫米。具体设计时，可根据光刻胶溶解剂和气体的流量而定，只要能够达到预期的清洗效果即可。较佳的，狭缝状气体喷嘴的狭缝宽度为0.05毫米，所述狭缝状液体喷嘴的狭缝宽度为0.03毫米。

优选的，所述狭缝状气体喷嘴的狭缝宽度大于所述狭缝状液体喷嘴的狭缝宽度。

优选的，所述第一狭缝区和所述第二狭缝区为条形，所述第一狭缝区和所述第二狭缝区平行且所述第一狭缝区和所述第二狭缝区的间距为0.5～1.0毫米。

当第一狭缝区和所述第二狭缝区的距离为0.5～1.0毫米时，可以保证光刻胶溶解剂能较好溶解基板边缘光刻胶后才被气体吹到基板外，大大提高了清洗的效果。

优选的，所述狭缝状气体喷嘴到基板的距离大于所述狭缝状液体喷嘴到基板的距离。