[发明专利]一种等离子体刻蚀装置及干法刻蚀设备有效
| 申请号： | 201410100337.X | 申请日： | 2014-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN103915304A | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | 张定涛;徐守宇;吴成龙;郑云友;宋泳珍;李伟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/04 | 分类号： | H01J37/04;H01J37/02;H01J37/305 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 刻蚀 装置 设备 | ||
1.一种等离子体刻蚀装置，包括气体输入端、下部电极和上部电极，其特征在于，所述上部电极包括多个上部子电极，所述装置还包括：整流板、升降螺杆以及绝缘隔板，其中：
所述整流板位于所述气体输入端和所述上部子电极之间，用于将所述气体输入端输入的反应气体均匀分布在每个上部子电极表面；
所述升降螺杆与每个上部子电极连接，用于控制每个上部子电极与所述下部电极之间的距离；
所述绝缘隔板位于相邻的两个上部子电极之间，使得相邻的上部子电极之间绝缘。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述上部电极包括9个上部子电极。
3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括设置有开孔的氧化铝挡板，所述氧化铝挡板位于所述气体输入端和所述整流板之间，用于将所述气体输入端输入的气体从所述氧化铝挡板的开孔处输出。
4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述氧化铝挡板上设置有9个开孔，分别位于所述氧化铝挡板的中心区域、四角区域和四边中心区域。
5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述整流板设置有150*150个开孔。
6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述整流板上的开孔的孔径，是根据所述整流板上的开孔与所述氧化铝挡板上的开孔之间的距离设置的，所述距离越大，所述整流板上的开孔的孔径越大。
7.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述整流板上的开孔的最大孔径为5毫米。
8.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述整流板上的开孔的最小孔径为3毫米。
9.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述绝缘隔板为陶瓷隔板。
10.一种干法刻蚀设备，其特征在于，所述设备包括权利要求1-9任一权项所述的等离子体刻蚀装置。
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